[发明专利]半导体器件加工用旋转定位装置有效
| 申请号: | 201510203615.9 | 申请日: | 2015-04-27 |
| 公开(公告)号: | CN105470185B | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
| 发明(设计)人: | 龙超祥;黎前军 | 申请(专利权)人: | 深圳市复德科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68 |
| 代理公司: | 深圳市惠邦知识产权代理事务所44271 | 代理人: | 孙大勇 |
| 地址: | 518103 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 半导体器件 工用 旋转 定位 装置 | ||
1.一种半导体器件加工用旋转定位装置,包括马达(110)以及与所述马达(110)的输出轴(111)固定连接的旋转盘(120),还包括与所述马达(110)的输出轴(111)所在端面贴合固定连接在一起的马达固定结构(13),其特征是:在所述马达固定结构(13)与所述旋转盘(120)之间还设置有滑动板(140),所述滑动板(140)与所述马达固定结构(13)连接,所述滑动板(140)与所述旋转盘(120)紧密贴合在一起,所述旋转盘(120)上设置有第一固定座(121)和第二固定座(122),所述旋转盘(120)在所述第一固定座(121)的安装处设置有第一气孔(125),所述旋转盘(120)在所述第二固定座(122)的安装处设置有第二气孔(126),所述滑动板(140)内设置有导气通道,所述导气通道与外部气源连通,所述第一气孔(125)和第二气孔(126)均与所述导气通道连通。
2.根据权利要求1所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:所述导气通道有两个,分别为第一导气通道(141)和第二导气通道(142),当所述旋转盘(120)转动到所述第一气孔(125)与所述第一导气通道(141)保持连通时的位置时,所述第二气孔(126)就与所述第二导气通道(142)连通,当所述旋转盘(120)转动到所述第一气孔(125)与所述第二导气通道(142)保持连通时的位置时,所述第二气孔(126)就与所述第一导气通道(141)连通。
3.根据权利要求2所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:所述滑动板(140)为石墨板。
4.根据权利要求3所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:在所述滑动板(140)与所述马达固定结构(13)之间设置有弹簧(15),弹簧(15)的一端抵住所述滑动板(140),弹簧(15)的另一端抵住所述马达固定结构(13)。
5.根据权利要求4所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:所述第一导气通道(141)为圆弧形的凹槽,所述圆弧的圆心在所述马达(110)的输出轴(111)的轴线上,所述凹槽包括凹槽底面(1411)以及设置在所述凹槽底面(1411)上的凹槽内侧面(1412)和凹槽外侧面(1413),所述凹槽内侧面(1412)所在圆的半径小于所述凹槽外侧面(1413)所在圆的半径。
6.根据权利要求5所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:所述凹槽内侧面(1412)所在圆的半径小于或者等于所述第一气孔(125)的内壁到所述马达(110)的输出轴(111)的轴线的最小距离。
7.根据权利要求6所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:所述凹槽外侧面(1413)所在圆的半径大于或者等于所述第一气孔(125)的内壁到所述马达(110)的输出轴(111)的轴线的最大距离。
8.根据权利要求2至7中任何一项所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:还包括设置在所述第一固定座(121)与所述第二固定座(122)连线一侧的第三固定座(123),所述旋转盘(120)在所述第三固定座(123)的安装处设置有第三气孔,所述第一气孔(125)、第二气孔(126)以及第三气孔中有任意一个气孔与所述第二导气通道(142)连通时,剩余的其他两个气孔就与所述第一导气通道(141)连通。
9.根据权利要求8所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:还包括设置在所述第一固定座(121)与所述第二固定座(122)连线另一侧的第四固定座(124),所述旋转盘(120)在所述第四固定座(124)的安装处设置有第四气孔(128),所述第一气孔(125)、第二气孔(126)、第三气孔以及第四气孔(128)中有任意一个气孔与所述第二导气通道(142)连通时,剩余的其他三个气孔就与所述第一导气通道(141)连通。
10.根据权利要求9所述的半导体器件加工用旋转定位装置,其特征是:所述第一固定座(121)、第三固定座(123)、第二固定座(122)以及所述第四固定座(124)依次按90度夹角设置在所述旋转盘(120)上。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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