[发明专利]感光元件及其制备方法有效
| 申请号: | 201510162031.1 | 申请日: | 2015-04-07 |
| 公开(公告)号: | CN104867950B | 公开(公告)日: | 2018-10-12 |
| 发明(设计)人: | 陈杰峰 | 申请(专利权)人: | 联想(北京)有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 安之斐 |
| 地址: | 100085*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 感光 元件 及其 制备 方法 | ||
本发明公开了一种感光元件,包括:基底;感光单元,位于所述基底上,包括由多个感光像素组成的像素阵列;微透镜单元,包括多个单色微透镜,所述单色微透镜位于所述感光像素上,配置来使特定颜色的光入射到与所述特定颜色对应的所述感光像素上;以及格栅挡板,位于所述基底上并形成在所述感光像素之间,其中所述格栅挡板由不反光的导电材料形成并且被形成为与所述像素阵列对应的网格形状,配置来使每个所述感光像素中产生的漏电流流向所述基底并且遮挡各个像素之间的杂散光。
技术领域
本发明涉及一种感光元件及其制备方法,尤其涉及一种能够减少成像模糊和串扰的感光元件及其制备方法。
背景技术
目前感光元件芯片的像素密度越来越高,而由于感光元件的尺寸存在限度,因此芯片的大小基本固定,由此造成每个感光像素越来越小。通常,芯片上的感光像素总会存在漏电流,该漏电流会流到相邻的像素中,导致成像模糊。此外,在每个感光像素上方会存在微透镜,理论上,该微透镜只允许某一单色光入射到其下方的感光像素,然而在实践中,由于微透镜的生产工艺以及感光像素尺寸的限制,都会存在一定量的杂散光入射到其它颜色的感光像素上,从而造成成像串扰问题。同时,如上文所述,由于感光元件芯片上的像素有越来越小的趋势,杂散光也越容易入射到其它颜色的感光像素上,由此成像串扰问题越来越严重。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明的目的在于提供一种能够大体上减少感光像素之间的模糊和串扰的感光元件及其制备方法。
根据本发明的一个方面,提供一种感光元件,包括:基底;感光单元,位于所述基底上,包括由多个感光像素组成的像素阵列;微透镜单元,包括多个单色微透镜,所述单色微透镜位于所述感光像素上,配置来使特定颜色的光入射到与所述特定颜色对应的所述感光像素上;以及格栅挡板,位于所述基底上并形成在所述感光像素之间,其中所述格栅挡板由不反光的导电材料形成并且被形成为与所述像素阵列对应的网格形状,配置来使每个所述感光像素中产生的漏电流流向所述基底并且遮挡各个像素之间的杂散光。
根据本发明的另一方面,提供一种感光元件制备方法,包括:制备基底;在所述基底上形成具有网格形状的格栅挡板,其中所述格栅挡板由不反光的导电材料形成;在所述基底上形成包括由多个感光像素构成的像素阵列的感光单元,其中所述感光单元中相邻的所述感光像素由所述格栅挡板间隔开;以及在感光单元上形成微透镜单元,其中,所述微透镜单元包括多个单色微透镜,所述单色微透镜位于所述感光像素上,配置来使特定颜色的光入射到与所述特定颜色对应的所述感光像素上,其中,所述格栅挡板配置来使每个所述感光像素中产生的漏电流流向所述基底并且遮挡各个像素之间的杂散光。
技术效果
由此可见,根据本发明的实施例的感光元件及其制备方法通过在多个感光像素之间由不反光的导电材料形成格栅挡板,从而使每个感光像素中所产生的漏电流流向感光元件的基底并且遮挡各个像素之间的杂散光,由此能够将像素所产生的漏电流引导至芯片的基底,避免了漏电流流向相邻的像素中,从而减少了成像的模糊,并且由于格栅挡板阻挡了杂散光入射到其它颜色的像素上,因此还能够改善成像的串扰问题。
附图说明
通过结合附图可更全面的理解本发明的上述及其它目的、优点和特征,在附图中:
图1是示出根据本发明的实施例的感光元件的俯视图;
图2是示出根据本发明的实施例的感光元件的侧视图;以及
图3是示出根据本发明的实施例的感光元件的制备方法的流程图。
附图意在描述本发明的示例性实施例,并且不应被解释为限制本发明的范围。除非明确指出,否则附图不应视为按比例绘制。
具体实施方式
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





