[发明专利]处理含铬废水的装置和处理含铬废水的方法

权利要求书

1.一种处理含铬废水的装置，其特征在于，所述装置包括槽体以及第一隔板、第二隔板和第三隔板，所述槽体包括被第一隔板、第二隔板和第三隔板沿水平方向顺序地分隔开的pH调节槽、一级还原槽、二级还原槽和中和槽，中和槽的底部设置有出水口，固液分离装置设置在中和槽的排水口处，其中，槽体的底部具有倾斜的底面。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，固液分离装置为离心机或者板框压滤机。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，第一隔板和第三隔板为活动隔板，第二隔板为固定隔板，第一隔板和第三隔板的上部以及第二隔板的底部分别设置有过水口。

4.如权利要求1所述的装置，其特征在于，pH调节槽和中和槽内分别设置有pH检测设备,一级还原槽和二级还原槽内分别设置有氧化还原电位检测设备。

5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，pH调节槽、一级还原槽、二级还原槽和中和槽中分别设置有曝气装置，并配套相应的加药装置。

6.一种处理含铬废水的方法，其特征在于，所述方法包括顺序执行的以下步骤：

(a)将含铬废水的pH值调节为2-3；

(b)然后向含铬废水中加入还原剂来对含铬废水进行一级还原和二级还原；

(c)经二级还原后，将含铬废水的pH值调节为7-9；

(d)对含铬废水进行固液分离，分离出的水直接排放。

7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在步骤(a)中，使用盐酸和硫酸中的至少一种来调节pH值，在步骤(c)中，使用氢氧化钠和氢氧化钙中的至少一种来调节pH值。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在步骤(b)中，一级还原和二级还原使用的还原剂分别为亚硫酸钠、亚硫酸氢钠、硫代硫酸钠和硫化亚铁中的至少一种，其中，经一级还原后的溶液的氧化还原电位值为200mV-300mV，且经二级还原后的溶液的氧化还原电位值为150mV-200mV。

9.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在步骤(d)中，使用离心机或板框压滤机来进行固液分离。

10.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在步骤(a)至步骤(d)，槽内均使用底吹气体对含铬废水进行搅拌，直到中和槽泵停止运行。