[发明专利]节流阀中的粉末和沉积物控制

权利要求书

1.阀设备，包括：

具有流动通道的阀体，所述阀体带有被定位在所述阀体中、介于所述流动通道的入口端和出口端之间的关闭构件；

所述流动通道中的喷嘴插件，所述喷嘴插件在所述流动通道中形成环形孔，从而能够引导由所述环形孔形成的环形流喷射到所述关闭构件上；

围绕所述喷嘴插件的环形集气室，所述环形集气室与所述环形孔流体连通，其中，所述环形集气室包括围绕所述流动通道延伸到所述阀体的一端中的环形通道，并且所述环形通道由所述喷嘴插件围绕所述流动通道封闭住以形成所述环形集气室；以及

辅助管道，所述辅助管道以成流体流关系的方式连接于所述环形集气室。

2.根据权利要求1所述的阀设备，其中，所述喷嘴插件具有会聚于圆柱形延伸部的外展的入口端区段，所述圆柱形延伸部在直径方面小于所述阀体的形成所述流动通道的内壁。

3.根据权利要求2所述的阀设备，其中，所述圆柱形延伸部以与所述环形通道相比更远的方式延伸到所述流动通道中，以便在内壁表面和所述圆柱形延伸部之间形成环形喷嘴，使得所述环形喷嘴从所述环形集气室延伸到所述环形孔。

4.根据权利要求3所述的阀设备，其中，所述阀设备包括围绕所述外展的入口端区段的外周的轮缘凸缘，所述轮缘凸缘以与所述环形通道相邻的方式抵靠所述阀体。

5.根据权利要求4所述的阀设备，其中，所述阀设备包括安装在所述轮缘凸缘上的圆形密封件。

6.根据权利要求1所述的阀设备，其中，所述环形集气室包括延伸到所述阀体的所述出口端中的环形通道，并且所述环形通道由所述喷嘴插件封闭住以形成所述环形集气室。

7.节流阀设备，所述节流阀设备用于对CVD系统的真空泵送管线中的排气流节流，所述CVD系统在排气中产生粉末颗粒，所述节流阀设备包括：

带有流动通道的阀体，所述流动通道由所述阀体的内壁表面限定并沿着纵向轴线从入口端口延伸到出口端口；

节流关闭构件，所述节流关闭构件被定位在所述流动通道中、介于所述入口端口和所述出口端口之间；

与所述内壁表面相邻的环形孔，所述环形孔面朝所述节流关闭构件；

所述阀体中的环形集气室，所述环形集气室通过环形喷嘴以成流体流关系的方式连接到所述环形孔，所述环形喷嘴被定向成将清洁气体的环形流通过所述环形孔、沿着所述阀体的与纵向轴线平行且同心的内壁表面喷射到所述节流关闭构件上并由此喷射到所述流动通道中，其中，所述环形集气室包括延伸到所述阀体的所述入口端中的环形通道，并且所述环形通道由喷嘴插件围绕所述流动通道封闭住以形成所述环形集气室；以及

所述阀体中的辅助导管，所述辅助导管与所述环形集气室成流体流关系并适用于连接到清洁气体源。

8.根据权利要求7所述的节流阀设备，其中，所述节流阀设备包括以成流体流关系连接到所述辅助导管的清洁气体供应阀，用于控制流到所述辅助导管中的清洁气体的流动。

9.一种控制节流阀中的粉末和固态沉积物的方法，所述节流阀具有带有流动通道的阀体及处于所述流动通道中的关闭构件，所述流动通道由所述阀体的内壁表面限定在所述阀体的入口端中的入口端口和所述阀体的出口端中的出口端口之间，其中，所述方法包括：

使清洁气体的第一部分流动到上游环形集气室中，所述上游环形集气室包括上游环形通道，所述上游环形通道延伸到所述阀体的所述入口端中并且被从所述入口端延伸到所述流动通道中的上游喷嘴插件围绕所述流动通道封闭住以形成上游环形喷嘴，所述上游环形喷嘴被以与所述内壁表面相邻的方式定位在所述关闭构件的上游，其中，所述上游环形集气室沿着所述内壁表面朝向所述关闭构件分配所述清洁气体的所述第一部分，从而引导所述清洁气体的所述第一部分喷射到所述关闭构件上；以及

使所述清洁气体的第二部分流动到下游环形集气室中，所述下游环形集气室包括下游环形通道，所述下游环形通道延伸到所述阀体的所述出口端中并且被从所述出口端延伸到所述流动通道中的下游喷嘴插件围绕所述流动通道封闭住以形成下游环形喷嘴，所述下游环形喷嘴被以与所述内壁表面相邻的方式定位在所述关闭构件的下游，其中，所述下游环形集气室将所述清洁气体的所述第二部分分配到所述下游环形喷嘴中，以便将所述清洁气体的所述第二部分沿着所述内壁表面朝向所述关闭构件引导，从而引导所述清洁气体的所述第二部分喷射到所述关闭构件上。