[发明专利]经优化的纹理化表面及优化的方法

权利要求书

1.一种使纹理化表面优化的方法，该方法包括以冰状颗粒喷击该纹理化 表面以形成经优化的纹理化表面。

2.如权利要求1的方法，其中所述冰状颗粒为可升华的二氧化碳或氩气 颗粒。

3.如权利要求1的方法，其中所述纹理化表面使用至少一种选自以下的 方法进行了纹理化：珠粒喷击、喷砂、等离子体喷雾、双丝电弧喷雾(TWAS)、 及其组合。

4.如权利要求1的方法，其中所述纹理化表面使用颗粒喷击装置，以冰 状颗粒进行喷击。

5.如权利要求4的方法，其中所述冰状颗粒夹带在载气中。

6.如权利要求5的方法，其中所述载气为氮气或空气。

7.如权利要求1的方法，其中该方法包括减少存在于所述纹理化表面中 的任何悬臂式结构的量。

8.一种经优化的纹理化表面，其使用包括以冰状颗粒喷击纹理化表面以 形成所述经优化的纹理化表面的方法进行优化。

9.如权利要求8的经优化的纹理化表面，其中所述纹理化表面使用至少 一种选自以下的方法进行了纹理化：珠粒喷击、喷砂、等离子体喷雾、双丝 电弧喷雾(TWAS)、及其组合。

10.如权利要求9的经优化的纹理化表面，其中所述纹理化表面包含铝、 铝合金、和/或其组合。

11.一种目标组件，其包括具有至少一个侧壁和/或凸缘的溅射目标，其 中所述侧壁和/或凸缘具有经优化的纹理化表面，所述经优化的纹理化表面 使用包括以冰状颗粒喷击至少一个纹理化表面以形成所述经优化的纹理化 表面的方法进行优化。

12.如权利要求11的目标组件，其中所述纹理化表面使用至少一种选自 以下的方法进行了纹理化：珠粒喷击、喷砂、等离子体喷雾、双丝电弧喷雾 (TWAS)、及其组合。

13.如权利要求12的目标组件，其中所述纹理化表面包含铝、铝合金、 和/或其组合。

14.如权利要求11的目标组件，其中使存在于所述纹理化表面中的任 何悬臂式结构的量减少以形成所述经优化的纹理化表面。