[发明专利]用于将多个涂层施加到光学基底的旋转涂布机

说明书

相关专利申请的交叉引用

本申请要求2013年10月11日提交的美国临时专利申请 61/890,045、2013年10月11日提交的美国临时专利申请61/890,055 以及2013年10月11日提交的美国临时专利申请61/890,059的优先权， 这些申请的公开内容均通过参考而全文引入本文中。

技术领域

本发明涉及旋转涂布机，例如具有至少一个一体化固化工位或固 化线的旋转涂布机，该固化工位或固化线用于以从多个可能的顺序中 选择的顺序将多个涂层施加到光学基底。

背景技术

旋转涂布方法和相关的旋转涂布机器(通常称为旋转涂布机)通 常用来在基底上提供均匀涂层。旋转涂布方法已经被用来形成带有涂 层的透镜，包括光学透镜。

现有的旋转涂布机通常用在施加单个类型或类别的涂层材料的生 产线中，并且通常在生产线中后面跟随有预设固化工位，例如热固化 烘箱，或UV固化工位，或IR固化工位。固化工位的类型以及与固化 工位相关的设定取决于在旋转涂布工位中施加的涂层材料的类型。这 导致难以快速切换用于施加不同涂层材料的生产线(例如针对不同的 基底和/或不同的最终产品)，原因在于，一般而言，涂层材料贮存器 和分配喷嘴组件必须进行净化和清洗，以适应涂层材料的改变。另外 的难题涉及固化工位，其可能不适合于固化其它涂层材料。

期望提供新型的涂布组件，其能够适应不同的涂层成分。还期望 这种新提出的旋转涂布组件能够适应多种不同的涂层成分。

发明内容

根据本发明，提供一种旋转涂布机，其包括：(a)涂布机碗状 物，其被构造成用以收集从涂布的光学基底排出的多余的涂层材料； (b)可旋转卡盘，其被构造成用以接纳涂布机碗状物中的光学基底， 并且被构造成用以在涂布期间使光学基底旋转；(c)多个涂层贮存器， 其中每个贮存器包含用于选择性地涂布光学基底的涂层成分(或材 料)；以及(d)可分度涂层贮存器平台，其包含所述多个涂层贮存 器，并且被构造成用以将所选择的涂层贮存器分度到涂布机碗状物上 方的分配位置中。对于一些实施例，旋转涂布机可以用于光学基底。

根据本发明，还提供一种旋转涂布机，其包括：(a)涂布机碗 状物，该涂布机碗状物被构造成用以收集从涂布的光学基底排出的多 余的涂层材料；(b)可旋转卡盘，该可旋转卡盘被构造成用以接纳 涂布机碗状物中的光学基底，并且被构造成用以在涂布期间使光学基 底旋转；以及(c)至少一个涂层贮存器，其中每个涂层贮存器包含用 于选择性地涂布光学基底的涂层成分(或材料)，并且(d)每个涂 层贮存器包括长形圆筒，该长形圆筒中具有用于从涂层贮存器分配涂 层材料的可动活塞。对于一些实施例，每个涂层贮存器通过定位在圆 筒的远侧端部处的无阀分配孔口分配涂层成分。

根据本发明，另外提供一种旋转涂布机，其包括：(a)涂布机 碗状物，该涂布机碗状物被构造成用以收集从涂布的光学基底排出的 多余的涂层材料；(b)可旋转卡盘，该可旋转卡盘被构造成用以接 纳涂布机碗状物中的光学基底，并且被构造成用以在涂布期间使光学 基底旋转；(c)多个涂层贮存器，其中每个贮存器包含用于选择性地 涂布光学基底的涂层成分(或材料)；以及(d)至少一个不同固化 工位，其中每个不同固化工位独立地构造成用以选择性地且至少部分 地固化施加到光学基底的至少一种涂层成分。对于一些实施例，每个 不同固化工位独立地包括以下工位中的至少一种：(i)热固化工位； (ii)UV固化工位；(iii)IR固化工位；以及(iv)上述(i)至 (iii)中至少两者的组合。

在所附的且形成为本公开一部分的权利要求中具体指出了表征本 发明的各种特征。从以下示出和描述了本发明非限制性实施例的详细 说明中，本发明的这些和其它特征、其操作优点和其使用所实现的特 定目的将会得到更加完全的理解。

附图说明

图1为根据本发明一些实施例的旋转涂布机的代表性透视图；

图2为图1的旋转涂布机的修改实施例的代表性示意平面图；

图3为图1的旋转涂布机的洗涤/干燥工位的代表性截面图；

图4为图1的旋转涂布机的分配单元和包含多个涂层贮存器的可 分度涂层贮存器平台的代表性截面图；

图5为图1的旋转涂布机的涂层贮存器的代表性截面图；以及