[发明专利]离型膜及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种离型膜，更加详细而言，涉及一种用于多层陶瓷电容器(MLCC)、偏光板保护用、OCA用等电子材料的在线涂覆(In-Line Coating)离型膜。

背景技术

在低温至高温的宽温度范围内，聚酯薄膜(Polyester film)的性能稳定性突出，相对于其他高分子树脂，耐化学性优秀。另外，机械强度、表面特性、厚度均匀性良好，可以适用于各种用途或工序条件。对此，适用于电容器、摄影胶片、标签、压敏胶带、装饰用薄片制品、转移胶带、偏光板以及陶瓷离型用生片等，随着近来高速化以及自动化的趋势，其需求正在增大。

其中，由于最近光学市场的低迷以及竞争日趋激烈，对电子材料用薄膜要求更高水准的性能和节约成本。

作为应对此类要求的方案，试图从离线涂覆(Off-Line Coating)离型膜转换为在线涂覆(In-Line Coating)离型膜，从而节约成本。

另外，随着最近电子设备小型化的趋势，电容器以及电感器等电子零件也趋于小型化，陶瓷生片本身也趋于薄膜化。因此，为了即使实现小型化也能表现出相同的容量并形成高品质的小型化，迫切要解决的问题在于，确保陶瓷生片的薄膜化以及厚度均匀性。因此，需要能够最大限度地减少生片的厚度偏差并具有高光滑度的离型膜，但是，从现状来看，很难提供符合此要求的离型膜。

陶瓷电容器生片成型用聚酯薄膜是在基膜上涂覆其他高分子树脂来用作离型膜。在制造离型膜时，会要求运行性、密接性、均匀的表面形状、透明性等特性，为此，改善有机硅类涂层粗液的方法和基膜本身的改性已成为一个重要的要求。特别是，基膜经过有机硅类涂层后用于陶瓷电容器生片的成型，因此基膜的均匀的表面形状，成为了基膜的重要的要求。

作为其一部分，韩国公开特许公报第2003-0055118号(2003.07.02)公开了一种离型膜用聚酯薄膜，其提供一种作为离型膜的衬底而有用的聚酯薄膜，将陶瓷浆液涂覆到离型膜上时，能够显著抑制陶瓷浆液层上针孔的形成，另外，在离型膜上形成陶瓷层时的陶瓷层的厚度变化率降低，因此能够赋予优秀的离型性能，在聚酯薄膜的一面(表面A)中，最大突起高度Rmax小于等于500nm，在所述聚酯薄膜的纵向以及横向，通过利用薄膜厚度的最大、最小以及平均值的下述式规定的厚度变化率小于等于5％。

另外，还公开了，此类聚酯薄膜的一面上包括离型层的离型膜。

并且，韩国公开特许公报第1999-0088139号(1999.12.27)公开了一种离型膜，将离型层表面平整的离型膜卷绕在辊上，也不会产生大块等，可用于薄膜生片的成型，其特征在于，离型层表面的中心线平均粗糙度Ra小于等于30nm，表示离型层表面的突起高度X和突起数量Y的关系的分布曲线，在突起高度0.05～0.3μm的范围内满足下述式(1)，并且在离型层表面，突起高度大于等于0.4μm的突起数量小于等于35个/mm²。

这些发明的情况，作为用于确保离型膜的表面平整度的主要因子，可以举出用作离型膜衬底的聚酯薄膜的离型层涂层表面的表面粗糙度以及厚度均匀性或者粗大粒子的数量等。

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明提供一种表面平滑且可以用作适用于电子材料用离型膜的基膜的聚酯薄膜以及利用该聚酯薄膜的离型膜的制造方法。

另外，本发明提供一种聚酯薄膜，在薄膜的一面(表面A)上，最大轮廓峰高的表面粗糙度Rp为小于等于0.27μm，优选为0.1μm～0.27μm，降低了缺陷的尺寸，且加工性优秀。

另外，本发明提供一种离型膜，将所述聚酯薄膜作为基膜，并在所述基膜的一面或两面上形成离型涂层，从而与所述聚酯薄膜的粘结力优秀，离型力的随时间变化以及偏差少，残余粘着率高。

另外，本发明提供一种所述聚酯基膜的厚度为10～50μm的薄膜的离型膜。由此，提供一种离型涂层用组合物和利用该离型涂层用组合物的离型膜的制造方法，可通过在线涂覆方法进行涂覆，使得离型层的涂层厚度为0.07～0.3μm的薄膜。

另外，本发明提供一种离型膜，解决了通过在线涂覆方法涂覆时产生的离型涂层涂覆得不均匀的问题，通过降低聚酯基膜的表面粗糙度来形成均匀的涂层，卷绕性优秀，不会产生鱼眼。

解决问题的技术方案

为了达成上述目的的本发明涉及一种离型膜，其包括：

聚酯基膜，其包含满足下述式1至式3的粒子；

离型涂层，其形成于所述基膜的一面或两面上，离型力变化率满足下述式4，离型力偏差满足下述式5，