[发明专利]具有改进的正交补偿的陀螺仪结构和陀螺仪有效
| 申请号: | 201480050415.8 | 申请日: | 2014-09-10 |
| 公开(公告)号: | CN105556242B | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
| 发明(设计)人: | 马库斯·林基奥;安斯·布卢姆奎斯特;亚科·罗希奥 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号: | G01C19/5712 | 分类号: | G01C19/5712;G01C19/5755;G01C19/5776 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 朱胜;陈炜 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 改进 正交 补偿 陀螺仪 结构 | ||
1.一种微机电陀螺仪结构,包括:
震动质量块;
本体元件;
弹簧结构件,使所述震动质量块悬挂于所述本体元件以允许主振荡和副振荡,在所述主振荡中,所述震动质量块的至少一部分被激励以在第一方向上振荡,在所述副振荡中,所述震动质量块的至少一部分在与所述第一方向垂直的第二方向上移动,并且所述震动质量块包括沿所述第二方向并且沿第三方向以平面的方式延伸的表面平面,其中,所述第三方向与所述第一方向和所述第二方向垂直;
第一导体,被布置成与所述震动质量块一起移动,所述第一导体包括在所述震动质量块上沿所述第一方向和所述第三方向延伸的第一表面;
第二导体,附接至所述本体元件,并且包括沿所述第一方向和所述第三方向延伸且与所述第一表面相邻的第二表面;
电压元件,被布置成在所述第一表面与所述第二表面之间产生电势差,由此在所述第二方向上引发静电力,所述静电力是通过所述震动质量块的所述主振荡来调制的。
2.根据权利要求1所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,
所述第一表面沿所述第一方向以平面的方式延伸至第一高度;
所述第二表面沿所述第一方向以平面的方式延伸至第二高度;
所述第一高度与所述第二高度彼此不同。
3.根据权利要求1所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述电压元件包括连接至所述第二导体的直流偏压源。
4.根据权利要求2所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述电压元件包括连接至所述第二导体的直流偏压源。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,
所述弹簧结构被配置成允许所述震动质量块沿所述第一方向的所述主振荡的最大振幅;
所述第一高度与所述第二高度之间的差等于或大于所述最大振幅。
6.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述第二表面高于所述第一表面。
7.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述第一表面高于所述第二表面。
8.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述主振荡是所述震动质量块绕与所述表面平面平行的轴的旋转振荡。
9.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述主振荡是所述震动质量块离开本体部且朝向所述本体部的线性振荡。
10.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述主振荡是所述震动质量块在两个平行轴之间的屈曲振荡。
11.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,
所述表面平面沿所述第二方向并且沿所述第三方向直线地延伸;
所述震动质量块包括沿所述第一方向并且沿所述第三方向以平面的方式延伸的两个第一侧平面;
所述震动质量块包括沿所述第一方向并且沿所述第二方向以平面的方式延伸的两个第二侧平面;
所述主振荡是所述震动质量块绕与所述第二侧平面平行并且将所述震动质量块划分为两个部分的旋转轴的旋转振荡;
所述第二导体与所述第一侧平面相邻,并且从所述第二导体至所述旋转轴的距离大于所述第二导体至所述震动质量块的相同部分中的所述第一侧平面的距离。
12.根据权利要求1至4中的任一项所述的微机电陀螺仪结构,其特征在于,所述第二导体包括至少一个长形梁,所述第二导体的长形梁的表面与所述震动质量块中的所述第一导体的所述第一表面对准。
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