[发明专利]用于均匀化激光辐射的设备

权利要求书

1.用于均匀化激光辐射(100)的设备，该设备包括：

-第一透镜阵列(1)，该第一透镜阵列具有第一光学功能边界面(10)和第二光学功能边界面(11)，具有高斯分布形式的强度分布的激光辐射(100)能够通过所述第一光学功能边界面射入第一透镜阵列(1)中，并且所述激光辐射(100)能够通过所述第二光学功能边界面从第一透镜阵列(1)中射出，其中，这两个光学功能边界面(10、11)中的至少一个光学功能边界面包括多个透镜器件(3)，这些透镜器件适用于将激光辐射(100)分解成多个分光束(101、102、103)；以及

-第二透镜阵列(2)，该第二透镜阵列在光束路径中设置在第一透镜阵列(1)下游，所述第二透镜阵列具有另外的第一光学功能边界面(20)和另外的第二光学功能边界面(21)，分光束(101、102、103)能够通过所述另外的第一光学功能边界面射入第二透镜阵列(2)中，并且分光束(101、102、103)能够通过所述另外的第二光学功能边界面从第二透镜阵列(2)中射出，其中，所述另外的第一光学功能边界面(20)和所述另外的第二光学功能边界面(21)中的至少一个光学功能边界面具有多个透镜器件(4)，这些透镜器件能够使分光束(101、102、103)折射，其中，在第二透镜阵列(2)的所述另外的第一光学功能边界面(20)上设置有抗反射涂层，

其中，所述第一透镜阵列(1)的透镜器件(3)构造成，使得这些透镜器件能够将激光辐射(100)分解为多个分光束(101、102、103)并且使这些分光束这样成形，使得分光束(101、102、103)能够基本上均匀地照亮第二透镜阵列(2)的所述另外的第一光学功能边界面(20)，其中，第一透镜阵列(1)的透镜器件(3)中的至少一些透镜器件构造成非球面或非柱面的。

2.根据权利要求1的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)的所有透镜器件(3)构造成非球面或非柱面的。

3.根据权利要求1的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)的透镜器件(3)具有焦距f₁并且所述第二透镜阵列(2)的透镜器件(4)具有焦距f₂，其中这样选择焦距f₁、f₂，使得f₁＝f₂。

4.根据权利要求1的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)的透镜器件(3)具有焦距f₁并且所述第二透镜阵列(2)的透镜器件(4)具有焦距f₂，其中这样选择焦距f₁、f₂，使得f₁>f₂。

5.根据权利要求1的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)的透镜器件(3)具有焦距f₁并且所述第二透镜阵列(2)的透镜器件(4)具有焦距f₂，其中这样选择焦距f₁、f₂，使得f₁<f₂。

6.根据权利要求3的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)和第二透镜阵列(2)以间距d彼此隔开地设置，其中这样选择间距d，使得d＝f₂。

7.根据权利要求4的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)和第二透镜阵列(2)以间距d彼此隔开地设置，其中这样选择间距d，使得d＝f₂。

8.根据权利要求5的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)和第二透镜阵列(2)以间距d彼此隔开地设置，其中这样选择间距d，使得d＝f₂。

9.根据权利要求1至8之一的设备，其特征在于，所述第一透镜阵列(1)和/或所述第二透镜阵列(2)的透镜器件(3、4)构造为微透镜器件。