[发明专利]使用吸辊的辊装置以及具有凹凸结构的构件的制造方法在审

专利信息
申请号: 201480008227.9 申请日: 2014-02-04
公开(公告)号: CN105073387A 公开(公告)日: 2015-11-18
发明(设计)人: 高桥麻登香;鸟山重隆 申请(专利权)人: 吉坤日矿日石能源株式会社
主分类号: B29C59/04 分类号: B29C59/04;B29C33/10;B29C33/42;H01L21/027
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 使用 装置 以及 具有 凹凸 结构 构件 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种辊装置,其具备:

可旋转且吸力在外周面从外向内作用的吸辊;

产生所述吸力的抽吸机构;和

覆盖所述吸辊的外周面的透气性构件。

2.如权利要求1所述的辊装置,其中,所述透气性构件由硅橡胶形成。

3.如权利要求1或2所述的辊装置,其中,在所述透气性构件的表面形成有凹凸图案。

4.如权利要求3所述的辊装置,其中,所述透气性构件的凹凸图案为用于将溶胶凝胶材料图案化的图案。

5.如权利要求3或4所述的辊装置,其中,所述透气性构件的凹凸图案为不规则的凹凸图案,凹凸的深度的标准偏差为10~100nm的范围,凹凸的平均间距为100~1500nm的范围。

6.如权利要求3~5中任一项所述的辊装置,其中,所述透气性构件的凹凸图案的傅立叶变换图像为圆环状。

7.如权利要求1~6中任一项所述的辊装置,其具备用于加热所述吸辊的加热单元。

8.如权利要求1~7中任一项所述的辊装置,其中,所述透气性构件的水蒸气透过率为1×10-6[(mL·cm)/(cm2·s·cmHg)]以上。

9.如权利要求1~8中任一项所述的辊装置,其中,所述透气性构件的厚度为10μm~1cm。

10.如权利要求1~9中任一项所述的辊装置,其中,所述透气性构件的表面能为25mN/m以下。

11.如权利要求1~10中任一项所述的辊装置,其具备使所述吸辊以所述吸辊的轴为中心旋转的驱动装置。

12.如权利要求1~11中任一项所述的辊装置,其中,所述吸辊的所述外周面的材质为多孔体。

13.如权利要求12所述的辊装置,其中,所述多孔体为陶瓷。

14.如权利要求1~11中任一项所述的辊装置,其中,所述吸辊的所述外周面为以等间隔均匀地设置有抽吸孔的网状。

15.一种具有凹凸结构的构件的制造方法,其为使用权利要求3~14中任一项所述的辊装置制造具有凹凸结构的构件的方法,该方法包括:

在基板上形成涂膜的工序;

在使所述吸辊旋转的同时,使所述透气性构件的所述凹凸图案与所述涂膜密合,从而将所述凹凸图案转印至所述涂膜的工序;和

将所述涂膜固化的工序。

16.如权利要求15所述的具有凹凸结构的构件的制造方法,其中,在使所述吸力作用于所述吸辊的同时,将所述凹凸图案转印至所述涂膜。

17.如权利要求15或16所述的具有凹凸结构的构件的制造方法,其中,所述涂膜的材料为溶胶凝胶材料。

18.如权利要求15~17中任一项所述的具有凹凸结构的构件的制造方法,其中,在将所述涂膜加热的同时,使所述透气性构件的所述凹凸图案与所述涂膜密合。

19.如权利要求15~18中任一项所述的具有凹凸结构的构件的制造方法,其中,具有所述凹凸结构的构件为光学基板。

20.一种有机电致发光元件的制造方法,其中,使用权利要求15~19中任一项所述的具有凹凸结构的构件的制造方法,制作作为具有凹凸结构的构件的具有凹凸表面的衍射光栅基板,并在所述衍射光栅基板的凹凸表面上依次层叠透明电极、有机层和金属电极,从而制造有机电致发光元件。

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