[实用新型]一种光电探测器有效
| 申请号: | 201420832879.1 | 申请日: | 2014-12-24 |
| 公开(公告)号: | CN204332969U | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
| 发明(设计)人: | 胡双元;朱忻;帕勒布.巴特查亚;和田修 | 申请(专利权)人: | 苏州矩阵光电有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0224;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 张建纲 |
| 地址: | 215614 江苏省苏州市张家港市凤*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光电 探测器 | ||
1.一种光电探测器,包括层叠设置的半绝缘InP衬底(1)和InP缓冲层(2),所述InP缓冲层(2)上直接形成有不相连的第一电极(5)和InGaAs光敏层(3),所述InGaAs光敏层(3)上层叠设置有InP帽层(4)和钝化层(8),所述InP帽层(4)面积小于或等于所述InGaAs光敏层(3)的面积;所述钝化层(8)中开设有暴露所述InP帽层(4)部分区域的通孔,沿所述通孔内侧壁形成环形第二电极(6),所述第二电极(6)的部分区域延伸至所述钝化层(8)的上部,形成搭接区;所述搭接区上部直接设置有电极引线(7);
其特征在于,
沿所述通孔靠近所述搭接区的一侧的任一切线方向,形成有贯通所述InP缓冲层(2)、所述InGaAs光敏层(3)以及所述InP帽层(4)的沟道,沿所述InP衬底(1)的平行面方向,所述沟道将层叠设置的所述InP缓冲层(2)、所述InGaAs光敏层(3)以及所述InP帽层(4)分割为两部分。
2.根据权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述沟道中填充有钝化材料。
3.根据权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述第二电极(6)为透光电极。
4.根据权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述钝化层(8)覆盖所述InGaAs光敏层(3)与所述InP帽层(4)的侧壁。
5.根据权利要求1所述的光电探测器,其特征在于,所述InP帽层(4)上还直接设置有至少覆盖所述第二电极(6)中央区域的减反层,用于减少所述InP帽层(4)的反射光线。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





