[实用新型]一种YAG激光电源的调压调流控制系统有效

专利信息
申请号: 201420790539.7 申请日: 2014-12-15
公开(公告)号: CN204231735U 公开(公告)日: 2015-03-25
发明(设计)人: 王小峰 申请(专利权)人: 深圳市通发激光设备有限公司
主分类号: H05B41/36 分类号: H05B41/36;H05B41/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市龙岗区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 yag 激光 电源 调压 控制系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种控制系统,尤其涉及一种YAG激光电源的调压调流控制系统。

背景技术

目前,现有工业应用在金属材料精密焊接应用中,常见的激光焊机90%以上的激光电源控制是供电输入,整流滤波,直接对储能电容,储能电容的电压岁电网波动而波动,放电部分对设定一定电流波形,产生放电回路,从来对氙灯激励产生激光,目前有三项整流后,在对储能电容的前端,有加上BOOST电路进行升压,对储能电容充电一定固定高压比如700Vdc.后续对氙灯放电部分也是一样主控板控制调流放电回路,可以设置电流波形,按一定参数(脉宽、频率、电流)对氙灯放电,这种固定储能电压并且电压比较高的激光电源,对后面放电IGBT吸收也产生消耗,对不同弧长的氙灯,特别是70弧长的氙灯,这么高的电压,产生很多点电能消耗,同时对产生的激光焊点有一定影响,不能部分适应材料焊接应用,特别是薄板类,现有的技术是利用Boost升压电路对储能电容充电到一定高压值,这个电压不是可以调节到很低的低压,比如200V,造成需要一些电压的激光器或者工艺参数时,满足不了一些特殊情况的应用,造成以上的原因,是输出的高压值不能低于三项整流滤波后的电压值,当输入电网比较高时,输入BOOST升压一定要设定比较高的电压值,一般650-700VDC,所以BOOST电路对储能电容充电电压达不到各种需求电压值。

实用新型内容

为了克服上述现有技术的缺陷,本实用新型的目的是提供一种YAG激光电源的调压调流控制系统。

本实用新型是采取以下技术方案来实现的:一种YAG激光电源的调压调流控制系统,它包括充电箱、放电箱和单片机控制系统,所述单片机控制系统通电后将开机信号传输至充电箱内;所述充电箱将接收的信号发送到放电箱;所述放电箱将信号传输至与其连接的激光电源处;所述激光电源外连接有冷水机;所述充电箱内包括整流电路、全桥逆变电路、输出整流电路、脉冲控制板和储能电容;所述放电箱内包括IGBT驱动电路、吸收回路、电流取样电路和点灯电路;所述单片机控制系统将充电电压基准传输至设置于充电箱内的脉冲控制板中;所述充电箱与单片机控制系统之间的信号传输为双向传输;所述放电箱所连接的激光电源为YAG氙灯。

综上所述本实用新型具有以下有益效果:本实用新型激光电源的调压调流控制系统设置有全桥零电流高效率的电路以及变压器隔离输出,且可根据设置单片机控制系统,可以输出不同电源值200-700Vdc,从而更广泛应用不同的激光器和工艺应用中去,YAG激光电源的调压调流控制系统中的激光焊接机为了适应不同的激光发生器,和通过跟单片机控制模块的配合,灵活设置输出电流和波形,激光发生器的峰值保护电流自动同步跟踪,从而有利于保护因突发性过流导致的激光发生器的损坏。

附图说明

图 1为本实用新型结构示意图;

其中:1、充电箱;2、放电箱;3、单片机控制系统;4、YAG氙灯;5、冷水机。

具体实施方式

如图1所示,一种YAG激光电源的调压调流控制系统,它包括充电箱1、放电箱2和单片机控制系统3,所述单片机控制系统3通电后将开机信号传输至充电箱1内;所述充电箱1将接收的信号发送到放电箱2;所述放电箱2将信号传输至与其连接的激光电源处;所述激光电源外连接有冷水机4。

本实用新型的工作流程为:首先单片机控制系统3的电路通电后,发出充电箱1开机信号;所述充电箱1整流充电滤波,同时单片机控制系统3给出需要设置的充电电压基准给脉冲控制板,输出脉冲到全桥逆变电路,输出整流电路,取样反馈得到需要电压值,给储能电容充电路并维持;充满后,所述单片机控制系统3发出点灯信号,高压对YAG氙灯4点灯,点灯成功后,单片机控制系统3根据设置电流波形发出脉冲给放电箱2IGBT驱动电路,通过电流取样电路反馈到单片机控制系统3,得到相应的电流波形;通常我们根据不同的激光电源里的氙灯,调节设置储能电能的电压值,同时根据焊接或切割材料设定电流波形,比例方波型,梯形,锯齿形等,实现对YAG氙灯4相应的电流脉冲放电;所述YAG氙灯4外接有冷水机5,可以及时有效的对YAG氙灯4进行降温,从而大大延长了该YAG氙灯4的使用寿命,降低了企业成本。

以上所述是本实用新型实施例,故凡依本实用新型申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型专利申请范围内。

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