[实用新型]校正盘、工作盘的自动移摆装置有效
| 申请号: | 201420720687.1 | 申请日: | 2014-11-27 |
| 公开(公告)号: | CN204382016U | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
| 发明(设计)人: | 陈健;陈福恭;许乔;王健 | 申请(专利权)人: | 上海中晶企业发展有限公司 |
| 主分类号: | B24B13/02 | 分类号: | B24B13/02 |
| 代理公司: | 上海天协和诚知识产权代理事务所 31216 | 代理人: | 李琳 |
| 地址: | 201802 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 校正 工作 自动 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及对光学玻璃元件表面冷加工的设备,具体涉及一种对光学玻璃元件表面冷加工的大型抛光机。
背景技术
对大型光学玻璃元件的平面加工,目前一般采用大型玻璃环抛机。现有的大型环抛机一般有一个很大的抛光盘,抛光盘上设有抛光膜,加工作业时抛光盘不断地绕其中心轴旋转,工件置于所述工件盘中随工件盘旋转,藉工件与抛光膜间的相对运动,实现对工件表面的磨削加工。为避免工件停留在抛光盘的同一半径处转动,工件盘还要沿抛光盘的半径方向摆动。
由于在工件磨削加工的过程中,抛光盘上的抛光膜的平整度会受到破坏,影响工件的加工精度,因此,要及时对抛光膜的平面度进行修整。所谓对抛光膜平面度修整,是将一自重较大的校正盘压在旋转的抛光盘上,同时使校正盘自转,通过校正盘与抛光膜之间的相对运动实现对抛光膜的平面度的修整。
设r为抛光盘的半径,且r1>r2,由于抛光盘在半径为r1上的任一点的线速度要大于在半径为r2上任一点的线速度,因此工件盘需要克服固一直在抛光盘的同一半径上而造成磨削不均匀的弊端,为此,必须让工件盘在抛光盘的半径方向上摆动起来;同理,校正盘也需要克服固一直在抛光盘的同一半径上而造成修整不均匀的弊端,也必须让校正盘在抛光盘的半径上方向摆动起来。
目前的大型环抛机,一般均采用操作人员手动或用人力驱动简单的机构使工件盘与校正盘沿抛光盘半径方向摆动,这种落后的操作方式,难以达到使工件盘与校正盘均匀地扫过抛光盘的要求,容易影响加工质量。
发明内容
本实用新型的目的在于提供一种工件盘的自动移摆装置,将原来用手动使工件盘在抛光盘上摆动改进为自动在抛光盘上摆动。
本实用新型的另一目的在于提供一种校正盘的自动移摆装置,将原来用手动使校正盘在抛光盘上摆动改进为自动在抛光盘上摆动。
本实用新型的技术方案之一是:一种工件盘的自动移摆装置,包括抛光盘、设于抛光盘上的工件盘;有一个驱动轮机构与一个从动轮机构,所述驱动轮机构中的驱动轮由电机带动,并于一侧与所述工件盘啮合,所述从动轮机构中的从动轮于另一侧与所述工件盘啮合;在所述抛光盘的上方,沿其半径方向设有一根横梁,横梁上设有水平丝杠、水平导轨,所述水平丝杠由丝杠电机带动,并驱动一拖板沿所述水平导轨往复移动;所述驱动轮机构和从动轮机构固设在所述拖板上。
本实用新型的技术方案之二是:一种校正盘的自动移摆装置,包括抛光盘、设于抛光盘上的校正盘,有一个驱动轮机构与一个从动轮机构,所述驱动轮机构中的驱动轮由电机带动,并于一侧与所述校正盘啮合,所述从动轮机构中的从动轮于另一侧与所述校正盘啮合;在所述抛光盘的上方,沿其半径方向设有一根横梁,横梁上设有水平丝杠、水平导轨,所述水平丝杠由丝杠电机带动,并驱动一拖板沿所述水平导轨往复移动;所述驱动轮机构和从动轮机构固设在所述拖板上;一提升机构固设在所述拖板上;所述校正盘的中心与一柔性轴相连,该柔性轴枢设于所述提升机构上。
本实用新型的特点是:
⑴ 将工件盘在抛光盘上的摆动从手动改为自动,减轻了了操作人员的劳动强度,提高了产品质量。
⑵ 将校正盘在抛光盘上的摆动从手动改为自动,减轻了操作人员的劳动强度,提高了抛光膜的修整质量。
⑶ 将工件盘与校正的操作由手动改为自动,提高了整个抛光机产品的自动化水平,能更好地体现高精度加工设备的总体水平。
附图说明
图1为工件盘的自动摆盘装置的结构示意图(主视)。
图2为图1的俯视图。
图3为校正盘的自动摆盘装置的结构示意图(主视)。
图4为图3的俯视图。
图中:1-抛光盘,2-抛光膜,3-中心柱,4-水平丝杠,5-横梁,6-从动轮机构,7-工件盘,8-拖板,9-水平导轨,10 –驱动轮机构,11-立柱,13-丝杠电机,14-驱动轮电机,24-水平丝杠,25-横梁,26-从动轮机构,27-校正盘,28-拖板,29-水平导轨,30-驱动轮机构,31-立柱,32-提升机构,32a-柔性轴,33-丝杠电机,34-电机。
具体实施方式
现结合实施例及其附图对本实用新型作进一步说明。
实施例1:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海中晶企业发展有限公司;,未经上海中晶企业发展有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420720687.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





