[实用新型]光阻剥离装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体封装技术领域，尤其涉及一种光阻剥离装置。

背景技术

一般的批处理方式光阻剥离装置都通过剥离液循环、产品慢速抖动、氮气鼓泡等方式增加液体在产品表面的交换速度，达到剥离能力提升的效果，但由于铜柱结构侧壁和底部的残胶很难通过药液浸泡的方式去除，而长时间的浸泡会造成剥离液对底材的攻击。

通过一般的喷淋方式可以快速去除光阻，但只能单片作业，对产能的损失较大，剥离效率也比较低。

实用新型内容

在下文中给出关于本实用新型的简要概述，以便提供关于本实用新型的某些方面的基本理解。应当理解，这个概述并不是关于本实用新型的穷举性概述。它并不是意图确定本实用新型的关键或重要部分，也不是意图限定本实用新型的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概念，以此作为稍后论述的更详细描述的前序。

本实用新型提供一种光阻剥离装置，包括剥离槽、所述剥离槽的上方设置有治具架，所述治具架上设置有多个用于固定圆片的圆片治具，至少所述圆片治具的下部位于所述剥离槽中，靠近每一所述圆片治具用于固定圆片的一侧均设置有一个搅拌栅板，所述搅拌栅板沿竖直方向滑动设置于所述剥离槽内。

本实用新型提供的光阻剥离装置，在使用时，通过搅拌栅板上下运动，以搅动圆片表面剥离液的流动速度，既能避免长时间浸泡剥离液对底材的攻击，又能提高去除光阻的效率。

附图说明

参照下面结合附图对本实用新型实施例的说明，会更加容易地理解本实用新型的以上和其它目的、特点和优点。附图中的部件只是为了示出本实用新型的原理。在附图中，相同的或类似的技术特征或部件将采用相同或类似的附图标记来表示。

图1为本实用新型实施例提供的圆片治具结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的搅拌栅板结构示意图；

图3为本实用新型实施例提供的使用状态结构示意图。

附图标记说明：

剥离槽-1；         圆片治具-2；         治具架-3；

搅拌栅板-4；       固定杆-5；           线性电机-6；

圆片-7；           剥离液-8；           载片板-21；

固定螺栓-22；      平板主体-41；        栅格-42。

具体实施方式

下面参照附图来说明本实用新型的实施例。在本实用新型的一个附图或一种实施方式中描述的元素和特征可以与一个或更多个其它附图或实施方式中示出的元素和特征相结合。应当注意，为了清楚的目的，附图和说明中省略了与本实用新型无关的、本领域普通技术人员已知的部件和处理的表示和描述。

图1为本实用新型实施例提供的圆片治具结构示意图，图2为本实用新型实施例提供的搅拌栅板结构示意图，图3为本实用新型实施例提供的使用状态结构示意图。

下面参照附图来说明本实用新型的实施例。

如图1-图3所示，本实施例提供一种光阻剥离装置，包括剥离槽1、所述剥离槽1的上方设置有治具架3，所述治具架3上设置有多个用于固定圆片7的圆片治具2，至少所述圆片治具的下部位于所述剥离槽中1，其特征在于，靠近每一所述圆片治具2用于固定圆片7的一侧均设置有一个搅拌栅板4，所述搅拌栅板4沿竖直方向滑动设置于所述剥离槽1内。

被固定的多个圆片治具2，可以随治具架3一同放入剥离槽中1。这样的结构可以完成批量处理，增加了操作的效率，降低了操作成本。每一个圆片治具的一侧都有一个搅拌栅板4，可以保证进行批量处理的每一个圆片7表面的剥离液都得到合适的搅拌处理。不但增加了操作的效果，而且保证了操作的效率，减少了因剥离液长时间浸泡所产生的对产品底材的攻击。

进一步的，所述搅拌栅板4包括平板主体41，所述平板主体上并排设置有多条水平延伸的栅格42。

并排设置的多条水平延伸的栅格42，起到增大阻力，进而增加搅拌效果的作用。

进一步的，所述剥离槽1上固定连接有直线电机6，所述直线电机6驱动连接竖直运动的固定杆5，所述固定杆5的下部与所述搅拌栅板4固定连接。