[实用新型]离子注入装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及物理学领域，特别涉及一种离子注入装置。

背景技术

在原子分子物理研究领域，为了在实验室中获得很高电荷态离子，一般采用以下两种方法实现：第一种方法是：用大型加速器产生的相对论性重离子轰击静止的固体靶，把离子剥离到高电荷态，其中，相对论性重离子是指速度接近光速的重离子。第二种方法是：用能量低得多的电子去轰击几乎静止的重原子气体靶，剥离离子到高电荷态。

其中，第二种方法常在电子束离子阱(英文：Electron Beam Ion Trap，简称：EBIT)实验中用到。

在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：

重原子常以固态的形式存在，因此获得重原子气体靶需要先蒸发重原子，再将蒸发得到的气体注入EBIT实验装置的漂移管中，这种注入方法有两个不利因素，其一是在蒸发重原子的过程中，由于蒸发装置内部存在污染，导致蒸发重原子时混入杂质，该杂质被带入漂移管内，从而使制成的离子纯度降低；其二是注入工艺复杂，注入装置会占用漂移管内部空间，且效率不高。

实用新型内容

为了解决现有技术的问题，本实用新型实施例提供了一种离子注入装置。所述技术方案如下：

本实用新型实施例提供了一种离子注入装置，所述装置包括：

激光器、高斯光束变换光路组件、紫外窗口、靶托和漂移管，所述高斯光束变换光路组件包括：高斯光束变换透镜和会聚透镜，所述高斯光束变换透镜、所述会聚透镜、所述紫外窗口及所述靶托依次设置在所述激光器发射出的激光的光路上，所述靶托位于所述漂移管中，所述紫外窗口嵌设在所述漂移管的管壁上。

在本实用新型实施例的一种实现方式中，所述激光器为波长范围在200-400nm的激光器。

在本实用新型实施例的另一种实现方式中，所述激光器为KrF准分子激光器或者XeCI准分子激光器。

在本实用新型实施例的另一种实现方式中，所述高斯光束变换光路组件还包括反射镜，所述激光器发射出的激光经过所述反射镜反射后穿过所述高斯光束变换透镜。

在本实用新型实施例的另一种实现方式中，所述反射镜上镀有增反膜。

在本实用新型实施例的另一种实现方式中，所述高斯光束变换透镜和所述会聚透镜上镀有增透膜。

在本实用新型实施例的另一种实现方式中，所述紫外窗口为石英晶体窗口。

在本实用新型实施例的另一种实现方式中，所述装置还包括：支撑结构及设于所述支撑结构上的调节平台，所述激光器和所述高斯光束变换光路组件设于所述调节平台上。

在本实用新型实施例的另一种实现方式中，所述调节平台包括光学平台和导轨，所述激光器设于所述光学平台上，所述高斯光束变换光路组件设于所述导轨上。

本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果是：

通过激光器发射的激光穿过高斯光束变换透镜和会聚透镜后，照射到靶托上时，靶托上的靶就会被激光所加热、熔化、气化，直至变为等离子体，从而实现向漂移管内注入离子，该装置在制备离子时不需要进行重原子的蒸发，而是直接采用激光照射靶材，使得制成的离子中不会混入杂质，纯度高；同时提高了产生离子的效率；激光器和高斯光束变换光路组件安装在漂移管之外，简化了漂移管内部的空间布置。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例提供的离子注入装置的结构示意图；

图2是本实用新型实施例提供的高斯光束变换示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。

实施例

本实用新型实施例提供了一种离子注入装置，参见图1，该装置包括：

激光器101、高斯光束变换光路组件102、紫外窗口103、靶托104和漂移管105，高斯光束变换光路组件102包括：高斯光束变换透镜1022和会聚透镜1023，高斯光束变换透镜1022、会聚透镜1023、紫外窗口103及靶托104依次设置在激光器101发射出的激光1011的光路上，靶托104位于漂移管105中，紫外窗口103嵌设在漂移管105的管壁上。