[实用新型]一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及核径迹孔膜领域，具体涉及一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置。

技术背景

核径迹膜(属于固体核径迹技术)在膜分离、防伪技术、医药保健、电子工业、环境科学等领域展现出了重要的应用价值。上世纪八十年代开始将固体核径迹技术用于材料表面改性。例如，在1980年《应用光学》上提到只要样品表面核径迹孔达到一定条件，该样品表面就有减反增透的光学性能。ZL200612100299.X专利中提到一种抗反射材料的制备方法，在可见光区(400nm-800nm)，经过辐照蚀刻镀膜处理的聚酯核径迹膜样品表面的反射率比未经过任何处理的样品的反射率降低了98％，刘存兄等经过多年的研究，研制的材料已实现在可见-紫外-中红外波段(400nm-25μm)的反射率小于1％，但是目前研制的样品还局限于2*2cm²的面积较小的样品。

由于制备抗反射材料所需的基底材料聚合物薄膜比较薄(＜100μm)，材质柔软，大面积的薄膜直接放入蚀刻液中蚀刻时，无法控制蚀刻速率，薄膜不易均匀蚀刻，且辐照后径迹密度较大(≥10⁸/cm²)，蚀刻后薄膜易破裂，所以必须解决样品蚀刻过程中膜固定的问题，以使潜径迹膜在蚀刻过程中更加稳定，使蚀刻速率均匀，薄膜不易破裂。

鉴于上述缺陷，本实用新型创作者经过长时间的研究和实践终于获得了本实用新型。

实用新型内容

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案在于，提供一种制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置，包括：

一夹持部，用以将潜径迹膜夹持并固定，使所述潜径迹膜在蚀刻时稳定，蚀刻均匀；

一液体盛装部，用以盛装蚀刻液并固定所述的夹持部，对所述潜径迹膜进行蚀刻。

其中，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；

所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；

所述子夹与所述母夹配合；

所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定。

较佳的，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；

所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，框的四周底部与一第一平板密封连接；

所述子夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述子夹的框底部四周边缘向内设有第二延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；

所述子夹与所述母夹配合；

所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定。

较佳的，所述的夹持部为一载膜夹，包括：一母夹和一子夹；

所述母夹为框式结构，框的截面为倒置的L形，且所述框底部四周边缘向内设有第一延伸板，用以支撑所述的潜径迹膜；

所述子夹与所述母夹配合；

所述子夹为框式结构，其框的截面为倒置的L形，框的四周底部与一第二平板密封连接；

所述子夹与所述母夹边框相同位置处设有钻孔，所述潜径迹膜放在所述子夹与所述母夹之间，在所述钻孔处用固定件将所述子夹与所述母夹固定；

其中，所述载膜夹为耐酸碱腐蚀高分子材料或不锈钢材料制成。

其中，所述的液体盛装部为一蚀刻槽，其四周设置有挂钩，用以固定在其他容器中，所述蚀刻槽的槽壁内部两侧对称设有多个能够垂直固定所述载膜夹的插槽，用以固定所述载膜夹。

其中，所述蚀刻槽为不锈钢材料制成。

较佳的，还包括一超声波发生器，为所述蚀刻槽提供超声波，对所述潜径迹膜实现均匀蚀刻。

较佳的，还包括一紫外灯，对固定在所述载膜夹的所述潜径迹膜敏化，加快蚀刻速率。

与现有技术相比较，本实用新型的有益效果在于：(1)夹持部能够将潜径迹膜固定在液体盛装部进行蚀刻，实现均匀蚀刻；(2)采用载膜夹固定聚合物薄膜，再将载膜夹插入蚀刻槽的固定插槽，从而使薄膜与蚀刻液充分接触，实现薄膜固定、均匀蚀刻；(3)利用此蚀刻装置可以实现潜径迹膜的单面、双面蚀刻；(4)利用此蚀刻装置能够制备不同尺寸，尤其是大尺寸的核径迹膜；(5)该蚀刻装置制作简单，使用方便、灵活，降低成本。

附图说明

图1为本实用新型中制备大面积高密度核径迹孔薄膜的蚀刻装置的结构框图；

图2为本实用新型中载膜夹子夹的俯视、左视和前视图；