[实用新型]过程现场设备、传感系统和控制系统有效
| 申请号: | 201420191899.5 | 申请日: | 2014-04-18 |
| 公开(公告)号: | CN204086933U | 公开(公告)日: | 2015-01-07 |
| 发明(设计)人: | 约翰·菲利普·米勒;罗伯特·卡尔·海德克 | 申请(专利权)人: | 罗斯蒙特公司 |
| 主分类号: | G05B19/418 | 分类号: | G05B19/418 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 汪洋 |
| 地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 过程 现场 设备 传感 系统 控制系统 | ||
1.一种过程现场设备,其特征在于,包括:
传感器,该传感器提供表示过程变量的信号;
提供表示该传感器的温度的信号的温度传感器;
转换器电路,用于将传感器信号转换成传感器值和将温度传感器信号转换成温度值;
处理器,包括数字滤波器,所述数字滤波器对从转换器电路接收的传感器值进行滤波以生成滤波传感器值,并且该处理器提供关于滤波传感器值的统计值,其中数字滤波器是随温度变化的滤波器,使得该数字滤波器随着温度值变化而变化;和
通信电路,所述统计值和滤波传感器值通过该通信电路被发送至一工作站。
2.根据权利要求1所述的过程现场设备,其特征在于,处理器通过将温度值应用于一方程式来构造所述数字滤波器,所述方程式是通过将一曲线与多个参数值相拟合确定的,所述多个参数值是为针对多个温度值而构造的多个滤波器确定的。
3.根据权利要求2所述的过程现场设备,其特征在于,针对多个温度值构造的所述多个滤波器中的每一个被构造成用于产生目标频率响应。
4.根据权利要求3所述的过程现场设备,其特征在于,目标频率响应包括已被滤波的传感器值的标准偏差的频率响应。
5.根据权利要求3所述的过程现场设备,其特征在于,目标频率响应包括与模型传感器相关联的频率响应,所述模型传感器在与传感器不同的范围中并且在选定的温度处操作。
6.根据权利要求3所述的过程现场设备,其特征在于,所述目标频率 响应包括在所有温度处都具有恒定频率响应的模型传感器的频率响应。
7.一种控制系统,其特征在于,包括:
滤波器,该滤波器对一系列传感器值进行滤波以产生滤波值;和
统计过程监控部件,该统计过程监控部件收集滤波值,从所述滤波值确定统计值并且在统计值超过阈值时发出警报,
其中滤波器对传感器值进行滤波以实现统计值的目标频率响应,该目标频率响应匹配从由在选定的范围内操作的传感器所产生的传感器值产生的统计值的频率响应,并且
所述统计过程监控部件选自定位在过程环境内的传感器、变送器和阀控制器中的一种。
8.根据权利要求7所述的控制系统,其特征在于,滤波器包括随温度变化的滤波器,所述随温度变化的滤波器是通过将温度值应用到相应的方程式而被构造成的,每个方程式限定该滤波器的单独的参数。
9.根据权利要求8所述的控制系统,其特征在于,每个方程式是通过将一曲线与在不同温度处确定的滤波器参数的多个值相拟合而构造成的。
10.根据权利要求7所述的控制系统,其特征在于,统计值的目标频率响应进一步匹配从由在选定的温度处操作的传感器产生的传感器值产生的统计值的频率响应。
11.根据权利要求7所述的控制系统,其特征在于,统计值的目标频率响应包括至少部分地由在与产生该系列传感器值的传感器不同的范围内操作的传感器产生的频率响应。
12.根据权利要求7所述的控制系统,其特征在于,统计值的目标频率响应包括至少部分地由与产生该系列传感器值的传感器不同地制造的传感器产生的频率响应。
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