[实用新型]一种显影胶杯

说明书

技术领域

本实用新型属于LED技术领域，主要涉及一种显影胶杯。

背景技术

目前LED外延衬底图形制造最重要的一环为光刻工艺，光刻工艺用以定义图形，而光刻工艺的步骤为涂胶，曝光，显影；其中显影就是把我们需要的图形显现出来，具体的过程是在晶圆的表面涂布上一层厚度均匀的光刻胶，在经过步进式光刻机曝光，把光刻板上的图形转移到光刻胶上，再通过显影，显影液和光照过的光刻胶发生化学反应，最终把外延衬底图形显示出来，我们的轨道式显影机是靠显影单元显影胶杯内发生化学反应来显影的，显影的过程为四步，滴注显影液，显影，甩除显影废液，去离子水冲洗。在这个过程中产生的多余显影液和去离子的混合液体在显影胶杯中，由于化学反应完成后显影胶杯会高速旋转，显影胶杯内的显影液和去离子的混合液体会碰到显影胶杯侧壁反溅射在晶圆上，造成晶圆污染，严重影响晶圆品质。

实用新型内容

为减少废液反溅对晶圆品质的影响，本实用新型提供了一种显影胶杯。

本实用新型的技术解决方案是：

一种显影胶杯，包括杯底、杯口以及连接杯底与杯口的侧壁，其特征在于：所述杯底的直径大于杯口的直径，所述侧壁为圆弧形侧壁，所述圆弧形侧壁向所述显影胶杯杯体的外部凸出。

基于上述技术方案，本实用新型还做出以下改进和优化限定：

上述杯口的直径为105-120mm，所述杯底的直径为370mm，显影胶杯的深度为45-55mm。

上述杯口的直径为110mm。

上述显影胶杯的深度为47mm。

本实用新型具有以下技术效果：

使用本实用新型时，不易产生废液反溅的现象，解决了废液反溅到晶圆上对晶圆造成的污染，提高了晶圆品质。

附图说明

图1为本实用新型的俯视图；

图2为本实用新型的侧视图；

图3为现有技术的侧视图。

附图标记：

1-杯口；2-杯底；3-侧壁。

具体实施方式

本实用新型提供了一种显影胶杯，包括杯底2、杯口1以及连接杯底与杯口的侧壁3，杯底的直径大于杯口的直径，侧壁为圆弧形侧壁，且该圆弧形侧壁向显影胶杯杯体的外部凸出，当本实用新型高速旋转时，显影胶杯内的废液碰到显影胶杯侧壁后，不容易从杯口溅出，避免了废液对晶圆造成的影响。

其中，杯口的直径可以为105-120mm，杯底的直径可以为370mm，显影胶杯的深度可以为45-55mm。杯口的直径优选110mm，显影胶杯的深度优选47mm，可以更好的防止显影胶杯内的废液从杯口溅出。