[发明专利]光阻涂布设备及光阻涂布方法在审

专利信息
申请号: 201410836654.8 申请日: 2014-12-29
公开(公告)号: CN104511388A 公开(公告)日: 2015-04-15
发明(设计)人: 王松;林佳龙 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: B05B13/04 分类号: B05B13/04;B05B15/10;B05D1/02
代理公司: 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光阻涂 布设 光阻涂布 方法
【权利要求书】:

1.一种光阻涂布设备,用于在基板上涂布膜层,其特征在于,所述光阻涂布设备包括工作台、喷嘴、喷嘴驱动装置、检测装置及控制器,所述基板放置于所述工作台上,所述喷嘴驱动装置用于驱动所述喷嘴在所述工作台上的基板上方移动,所述喷嘴横跨所述基板,所述检测装置横跨所述基板且平行于所述喷嘴,所述检测装置用于检测所述基板表面凹凸起伏变化并计算出所述喷嘴与基板之间的间隙变化曲线,所述控制器根据所述检测装置计算出的所述间隙变化曲线控制所述喷嘴驱动装置,使得所述喷嘴驱动装置带动所述喷嘴移动,且按照所述间隙变化曲线调整所述喷嘴与所述基板之间的垂直距离。

2.如权利要求1所述的光阻涂布设备,其特征在于,所述检测装置为反射式激光侦测器,所述检测装置包括发射器、接收器和计算单元,所述发射器和所述接收器均设于所述工作台的上方且用于发射接收激光束,所述激光束横跨基板,所述检测装置从所述工作台的一侧移动到相对的另一侧的过程中完成对所述基板的扫描。

3.如权利要求1所述的光阻涂布设备,其特征在于,所述控制器包括均值单元,所述均值单元依据所述间隙变化曲线计算出所述喷嘴与所述基板之间各点间隙的平均值,所述控制器将所述平均值发送给所述喷嘴驱动装置,所述喷嘴驱动装置将所述喷嘴定位,使得所述喷嘴与所述基板之间的垂直距离等于所述平均值。

4.如权利要求3所述的光阻涂布设备,其特征在于,所述控制器还包括曲线修正单元和侦测单元,所述侦测单元用于侦测所述间隙变化曲线的起伏状况,当侦测到所述间隙变化曲线突然起伏状况时,所述曲线修正单元修正所述间隙变化曲线,使得所述突然起伏的位置处平缓化,所述控制器依据修正后的所述间隙变化曲线操纵所述喷嘴驱动装置。

5.如权利要求4所述的光阻涂布设备,其特征在于,所述控制器还包括报警单元,当所述侦测单元侦测到所述间隙变化曲线的最高点或最低点与所述平均值之间的差超过一个预定的范围时,启动所述报警单元。

6.一种光阻涂布方法,其特征在于,包括:

利用检测装置检测基板的表面凹凸起伏变化;

通过所述检测装置计算所述喷嘴与基板之间的间隙变化曲线;

通过控制器接收所述间隙变化曲线信息并控制喷嘴驱动装置工作;

所述喷嘴驱动装置带动所述喷嘴移动,且按照所述间隙变化曲线调整所述喷嘴与所述基板之间的垂直距离。

7.如权利要求6所述的光阻涂布方法,其特征在于,所述检测装置为反射式激光侦测器,所述检测装置包括发射器、接收器和计算单元,所述发射器和所述接收器均设于所述工作台的上方且用于发射接收激光束,所述激光束横跨基板,所述检测装置从所述工作台的一侧移动到相对的另一侧的过程中完成对所述基板的扫描。

8.如权利要求6所述的光阻涂布方法,其特征在于,通过控制器接收所述间隙变化曲线信息之后,且在所述控制器控制喷嘴驱动装置工作之前,还包括如下步骤:所述控制器中的均值单元依据所述间隙变化曲线计算出所述喷嘴与所述基板之间各点间隙的平均值;所述控制器将所述平均值发送给所述喷嘴驱动装置;及所述喷嘴驱动装置将所述喷嘴定位,使得所述喷嘴与所述基板之间的垂直距离等于所述平均值。

9.如权利要求8所述的光阻涂布方法,其特征在于,所述控制器计算出所述喷嘴与所述基板之间各点间隙的平均值后,还包括如下步骤:通过所述控制器的侦测单元侦测所述间隙变化曲线的起伏状况,当侦测到所述间隙变化曲线突然起伏状况时,利用所述控制器的曲线修正单元修正所述间隙变化曲线,使得所述突然起伏的位置处平缓化,所述控制器依据修正后的所述间隙变化曲线操纵所述喷嘴驱动装置。

10.如权利要求9所述的光阻涂布方法,其特征在于,当所述侦测单元侦测到所述间隙变化曲线的最高点或最低点与所述平均值之间的差超过一个预定的范围时,启动所述控制器中的报警单元。

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