[发明专利]一种光学玻璃清洗剂

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学玻璃清洗剂，属于清洗剂领域。

背景技术

光学玻璃是光电技术产业的基础和重要组成部分。特别是在20世纪90年代以后，随着光学与电子信息科学、新材料科学的不断融合，作为光电子基础材料的光学玻璃在光传输、光储存和光电显示三大领域的应用更是突飞猛进，成为社会信息化尤其是光电信息技术发展的基础条件之一。

在光学玻璃的生产过程中，有大量需要清洗的环节，要求清洗干净无残留。传统清洗剂一般为有机溶剂型清洗剂，有机溶剂型清洗剂在洗光学玻璃表面的切削液研磨膏以及指纹指印的同时会有较快的挥发速度，但这些溶剂型清洗剂主要成分为卤代烃溶剂、芳香烃溶剂、短链烷烃溶剂等，吸入人体后会对人体健康产生危害，且存在较大的消防安全隐患。

此外，虽然在现有技术中的部分文献中也出现了使用水作为溶剂的清洗剂，但使用这些水基型清洗剂普遍存在清洗效果不佳、玻璃表面清洗剂液体残留量大、清洗后下一步工艺中镀膜在玻璃表面的附着力弱的问题，且这些水基型清洗剂只能在稀释倍率小的情况下才能获得相对较好的清洗效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种清洗效果好、清洗效率高、成本低、增强下一步工艺中镀膜在玻璃表面的附着力的安全环保的光学玻璃清洗剂。

一种光学玻璃清洗剂，该清洗剂包括：氢氧化钾10-24％、乙二胺四乙酸四钠盐或次氮基三乙酸1-10％、脂肪醇聚氧乙烯醚1-5％、三乙醇胺1-8％、二月桂酸二丁基锡1-5％、异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚和/或乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇1-10％、纯水余量，以上各组分质量百分数之和为100％。

优选该清洗剂包括：氢氧化钾15-20％、乙二胺四乙酸四钠盐或次氮基三乙酸8-10％、脂肪醇聚氧乙烯醚2-4％、三乙醇胺5-7％、二月桂酸二丁基锡1-3％、异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚和/或乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇6-8％、纯水余量，以上各组分质量百分数之和为100％。

进一步优选该清洗剂包括：氢氧化钾16-18％、乙二胺四乙酸四钠盐或次氮基三乙酸8-9％、脂肪醇聚氧乙烯醚2-4％、三乙醇胺5-7％、二月桂酸二丁基锡1-2％、异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚和/或乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇6-8％、纯水余量，以上各组分质量百分数之和为100％。

本发明中的“％”均表示“质量％”。

其中，同时使用异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚与乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇时，异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚与乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇的质量比优选为1：1-1：3。

该清洗剂的pH值优选为12.5-13.5。

本发明中所用的脂肪醇聚氧乙烯醚作为非离子表面活性剂，可以使用AEO9等。

异构C13脂肪醇聚氧乙烯醚作为非离子表面活性剂，可以使用埃克森美孚公司生产的型号为“Lexxiso^TM1307”的产品、沙索化学有限公司生产的型号为“MARLOSOL TA 90”的产品等。

乙氧基丙氧基化C8-10脂肪醇作为阴离子表面活性剂，可以使用西格玛奥德里奇公司生产的型号为“Triton^TM XL-80N”的产品、陶氏化学有限公司生产的型号为“EH-9”的产品等。

本发明的有益效果：

发明人针对现有技术中的有机溶剂型清洗剂毒害性大，水基清洗剂清洗效果不佳、玻璃表面残留量大、清洗后镀膜在玻璃表面附着力弱的现状，提出了本发明。本发明通过对清洗剂的组分和含量的改善的协同配合，得到了一种能有效去除光学玻璃表面研磨膏、液晶、粉尘和指纹等污渍，无水印，快干，清洗后玻璃表面残留少的清洗剂；特别是在使用本发明的清洗剂进行清洗之后，意外地发现其可增强下一步工艺中镀膜在玻璃表面的附着力，进而提高生产效率。此外，本发明的清洗剂在稀释倍率为30倍以上时也能获得良好的清洗效果，从而能在很大程度上降低成本。因此，通过使用本发明的清洗剂，能够同时获得残留量少、清洗后镀膜在玻璃表面附着力强的效果，是一种清洗效果好、清洗效率高、成本低的安全环保的光学玻璃清洗剂。

具体实施方式

以下具体实例旨在对本发明技术方案的进一步说明，而不是限制本发明的保护范围。

选取的光学玻璃试样：尺寸为90mm*120mm光学玻璃，厚度为2mm。将光学玻璃试样用丙酮清洗后放入烘箱烘干2h，再在干燥箱中冷却至室温称量，记录试片重量后备用。

选取在玻璃生产中产生的研磨膏、液晶、粉尘的综合污物备用。

实施例1