[发明专利]一种用于化学镀的恒温水浴装置在审
| 申请号: | 201410815450.6 | 申请日: | 2014-12-23 |
| 公开(公告)号: | CN105779973A | 公开(公告)日: | 2016-07-20 |
| 发明(设计)人: | 张旭;乔在祥;李巍 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
| 主分类号: | C23C18/00 | 分类号: | C23C18/00 |
| 代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
| 地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 化学 恒温 水浴 装置 | ||
技术领域
本发明属于太阳电池技术领域,特别是涉及一种用于化学镀的恒温水浴 装置。
背景技术
目前,CIGS太阳电池具有生产成本低、污染小、抗辐照能力强、弱光性 能好等特点,光电转换效率居各种薄膜太阳能电池之首,被国际上称为“下 一时代非常有前途的新型薄膜太阳电池”。采用化学水浴法制备CdS半导体 薄膜是CIGS太阳电池制备的重要组成部分。要求CdS半导体薄膜能够完整的 包覆在大面积粗糙的CIGS表面,CdS致密无针孔,并且为了减少串联电阻, CdS薄膜应尽量薄。
目前实验室大多应用恒温水浴锅,采用恒温化学水浴沉积法镀CdS薄膜。 利用上述恒温装置可以得到小面积均匀稳定,重复性好的化学镀薄膜制备效 果。但是,随着工艺的改进,大规模生产的要求,需要进行大面积化学水浴 沉积镀CdS薄膜。而大面积薄膜沉积制备过程中要求大面积内受热面温度均 匀、表面平整度高、保温效果好、加热速度快。传统的大型化学镀恒温水浴 装置存在无法满足现阶段工艺的要求等问题。
发明内容
本发明为解决公知技术中存在的技术问题而提供一种用于化学镀的恒温 水浴装置。
本发明的目的是提供一种具有加热速度快,保温效果好,导热能力强, 温差降到最低,整个受热面温度均匀,不易变形,并且耐化学腐蚀性强等特 点的用于化学镀的恒温水浴装置。
本发明装置外管路利用多进多出循环管路充水方式进行加热,并将整个 大的槽体分割成多个循环腔体,每个循环腔体为单进单出,循环腔体内配备 蛇形挡板,装置以黄铜作为主体材料,并在表面喷涂一层聚四氟乙烯薄膜。 本发明能够使恒温化学水浴装置加热速度快,受热面温度均匀、表面平整度 高、保温效果好。
本发明用于化学镀的恒温水浴装置所采取的技术方案是:
一种用于化学镀的恒温水浴装置,其特点是:用于化学镀的恒温水浴装 置外管路利用多进多出循环管路充水方式进行加热,整个槽体分割成多个循 环腔体,每个循环腔体为单进单出,循环腔体内配备蛇形挡板,循环腔体面 板和隔板材料为黄铜,面板表面喷涂一层聚四氟乙烯薄膜。
本发明用于化学镀的恒温水浴装置还可以采用如下技术方案:
所述的用于化学镀的恒温水浴装置,其特点是:面板与隔板采用黄铜焊 接而成,然后与不锈钢底板采用螺钉连接。
所述的用于化学镀的恒温水浴装置,其特点是:循环腔体装设测温传感 器。
所述的用于化学镀的恒温水浴装置,其特点是:整个槽体分割成5-8循 环腔体。
本发明具有的优点和积极效果是:
用于化学镀的恒温水浴装置由于采用了本发明全新的技术方案,与现有 技术相比,本发明具有以下特点:
1.本发明采用了多进多出管路进行水路循环加热,并将整个大的槽体分 割成多个循环腔体,每个循环腔体为单进单出,此方法可以加快水流量速度, 使水能够迅速的充满装置的每个循环腔体,加热速度快,保温效果好。
2.本发明装置循环腔体内配备蛇形挡板,该充水方式使整个受热面温度 均匀,使温差降到最低。
3.本发明装置以黄铜作为槽体材料具有良好的保温效果和导热能力,不 易变形,并且耐化学腐蚀性强。
4.本发明对槽体表面进行抛光打磨,保证表面的平整度。对槽体表面喷 涂一层聚四氟乙烯,保证槽体的化学稳定性、耐腐蚀性,在化学镀的高温强 酸强碱的环境下不易变形。
附图说明
图1为本发明槽体俯视示意图;
图2为本发明槽体内部示意图;
图3为现有的化学镀恒温水浴装置槽体俯视示意图;
图4为现有的化学镀恒温水浴装置槽体内部示意图。
图中,1、1'、2、2'、3、3'-进水口,4-槽体,5、6、7-传感器,8、 9、10、11、12、13-出水口,14、15、16、17、18-槽体内部隔板,19-循环腔 体内部蛇形挡板,20、21、22-进水口,23-槽体,24、25、26-传感器,27、 28、29、30、31、32-出水口。
具体实施方式
为能进一步了解本发明的发明内容、特点及功效,兹例举以下实施例, 并配合附图详细说明如下:
参阅附图1至图4。
实施例1
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
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C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
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