[发明专利]用于监视反应器表面的设备和方法

权利要求书

1.用于监视反应器表面的设备，包括：

-至少一根传感器电缆(10)，所述至少一根传感器电缆在所述设备运行中至少部分设置在反应器表面的区域中；

-至少一根光导纤维(1、2)，所述至少一根光导纤维设置在所述至少一根传感器电缆(10)内；

-至少一个激光源，所述至少一个激光源的光在所述设备运行中至少部分输入耦合到所述至少一根光导纤维(1、2)内；

-分析机构，在该分析机构中，在所述设备运行中对所述光的从所述至少一根光导纤维(1、2)中输出耦合的部分进行分析，以便关于至少一个物理量分辩位置地监视反应器表面的至少一部分；

其特征在于，所述设备包括磁保持机构(8)，用于将所述至少一根传感器电缆(10)设置在反应器表面上。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述保持机构(8)在它们的在所述设备运行中朝向反应器表面的那侧上具有缝隙(9)用于容纳所述至少一根传感器电缆(10)。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述设备包括至少两根光导纤维(1、2)。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于，所述分析机构包括至少两个分析单元(3、4)，其中每个分析单元(3、4)与其中一根光导纤维(1、2)连接，以便对从该光导纤维(1、2)中输出耦合的光进行分析。

5.根据权利要求3或4所述的设备，其特征在于，所述至少两根光导纤维(1、2)设置在同一根传感器电缆(10)内。

6.根据权利要求3至5之一所述的设备，其特征在于，每根所述光导纤维(1、2)在两侧与分析机构和/或所述至少一个激光源连接。

7.根据权利要求4至6之一所述的设备，其特征在于，所述设备包括控制机构(5)，每个所述分析单元(3、4)与该控制机构(5)连接。

8.根据权利要求1至7之一所述的设备，其特征在于，被监视的物理量是光导纤维(1、2)的温度或应变。

9.根据权利要求1至8之一所述的设备，其特征在于，所述设备包括垫状或网状的保持机构(12)，用于将所述至少一根传感器电缆(10)安置在反应器表面上。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于，所述至少一根传感器电缆(10)与保持机构(12)连接。

11.根据权利要求9或10所述的设备，其特征在于，所述垫状或网状的保持机构(12)在所述设备运行中至少部分围绕反应器表面设置。

12.用于监视反应器表面的方法，其特征在于下面的方法步骤：

-将至少一根传感器电缆(102)连同至少两根光导纤维(1、2)的至少部分设置在反应器表面的区域中；

-将激光输入耦合到光导纤维(1、2)内；

-对所述光的从光导纤维(1、2)中输出耦合的部分进行分析，以便关于至少一个物理量分辩位置地监视反应器表面的至少一部分。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，特别是在不同的分析单元(3、4)中，彼此独立地对所述光的从所述至少两根光导纤维(1、2)中输出耦合的部分进行分析。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，监视分析单元(3、4)的功能。