[发明专利]一种相变材料、该相变材料制成的相变存储器及制备方法有效
| 申请号: | 201410682337.5 | 申请日: | 2014-11-24 |
| 公开(公告)号: | CN104409628B | 公开(公告)日: | 2017-09-26 |
| 发明(设计)人: | 王青;刘波;夏洋洋;张中华;宋三年;宋志棠;封松林 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所31219 | 代理人: | 李仪萍 |
| 地址: | 200050 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 相变 材料 制成 存储器 制备 方法 | ||
1.一种相变材料,其特征在于,所述相变材料至少包括:组分通式为CrxSbyTe1的化合物,其中,x、y均指元素的原子比,且满足:0<x<1,2.5≤y≤3.5。
2.根据权利要求1所述的相变材料,其特征在于:所述相变材料的组分满足:0.25≤x≤0.5。
3.根据权利要求1所述的相变材料,其特征在于:所述相变材料的组分为Cr0.25Sb2.5Te1或Cr0.41Sb2.5Te1。
4.一种相变存储器,其特征在于:所述相变存储器至少包括下电极层、上电极层以及位于所述下电极层与所述上电极层之间的相变材料层,所述相变材料层包括由如权利要求1~3任意一项所述的相变材料。
5.根据权利要求4所述的相变存储器,其特征在于:所述下电极层的材料包括:单金属材料W、Pt、Au、Ti、Al、Ag、Cu、Ni中的一种,或由所述单金属材料任意两种或多种组合成的合金材料,或所述单金属材料的氮化物或氧化物。
6.根据权利要求4所述的相变存储器,其特征在于:所述上电极层的材料包括:单金属材料W、Pt、Au、Ti、Al、Ag、Cu、Ni中的一种,或由所述单金属材料任意两种或多种组合成的合金材料,或所述单金属材料的氮化物或氧化物。
7.一种如权利要求4~6任意一项所述的相变存储器的制备方法,其特征在于,至少包括以下步骤:
形成下电极层;
在所述下电极层上形成相变材料层;
在所述相变材料层上形成上电极层;
在所述上电极层上形成引出电极,把所述上电极层、所述下电极层通过所述引出电极与器件单元的控制开关、驱动电路及外围电路集成。
8.根据权利要求7所述的相变存储器的制备方法,其特征在于:所述引出电极的材料为W、Pt、Au、Ti、Al、Ag、Cu或Ni中任一种,或其任意两种或多种组合成的合金材料。
9.根据权利要求7所述的相变存储器的制备方法,其特征在于:制备所述下电极层、所述相变材料层、所述上电极层及所述引出电极的方法包括:溅射法、蒸发法、化学气相沉积法、等离子体增强化学气相沉积法、低压化学气相沉积法、金属化合物气相沉积法、分子束外延法、原子气相沉积法或原子层沉积法中任一种。
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