[发明专利]一种Y型功分器制造工艺在审
| 申请号: | 201410673505.4 | 申请日: | 2014-11-22 |
| 公开(公告)号: | CN104347923A | 公开(公告)日: | 2015-02-11 |
| 发明(设计)人: | 周衢;龚建君;涂学明 | 申请(专利权)人: | 成都锦江电子系统工程有限公司 |
| 主分类号: | H01P11/00 | 分类号: | H01P11/00;H01P5/12 |
| 代理公司: | 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 | 代理人: | 袁英 |
| 地址: | 643031 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 型功分器 制造 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及微波器件加工领域,特别是涉及一种Y型功分器制造工艺。
背景技术
Y分支波导是集成光学中的常用器件,被广泛应用于分束器、光开关和调制器等波导器件中。现微波器件制造厂家制作Y型功分器的过程如下:将Y型功分器分成多个零件,采用传统手工火焰钎焊方法分多次组焊成型,包括盖板、Y分支槽和两个法兰盘的组合焊接。
其具体工艺流程如下:
1、零件加工:
1.1:盖板加工:备料→数铣→线切割→钳。
1.2:Y分支槽加工:备料→数铣→热处理退火→数铣→线切割→钳。
1.3:法兰盘1加工:备料→数铣→钳。
1.4:法兰盘2加工:备料→数铣→钳。
2、手工火焰焊接成型:
2.1:分支波导:由盖板和Y分支槽手工火焰焊接成型,其工艺流程:配装盖板和Y分支槽→酸洗→火焰钎焊→清洗→钳→铣→钳。
2.2:Y型功分器:由分支波导和两个法兰盘手工火焰焊接成型,其工艺流程:配装法兰盘和分支波导→酸洗→火焰钎焊→清洗→钳→酸洗→火焰钎焊→清洗→钳→铣→钳→电镀→油漆→装配。
传统手工火焰钎焊方法存在如下一些问题和缺陷:1、加工工序多、生产周期长;2、操作人员工作量大,技能水平要求较高;3、传统手工火焰钎焊是局部加热,焊接时温度均匀性差,焊接后型腔的变形量较大,型腔尺寸精度难以保证; 4、传统手工火焰钎焊成型的Y型功分器的一致性较差,尺寸精度差,对电讯参数影响大,增大了调试难度;5、为使钎料在母材间隙中润湿、毛细流动,钎焊填缝时须使用钎剂,而钎剂对母材本身的腐蚀作用大,钎焊后无法彻底清除残留钎剂残余物,导致功分器的防腐性能大幅降低,使用寿命大幅缩短。因此,传统制造工艺方法难以满足产品的质量要求和批量生产的需求。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种新型的Y型功分器制造工艺,将传统由盖板、分支波导、法兰盘多次焊接成型设计为上盖板、下腔体,采用真空钎焊技术一次焊接成型,采用凹凸面控制功分器的装配尺寸精度,加工工序减少,劳动强度低,生产周期短;数控加工和真空钎焊保证批量生产尺寸精度的一致性;焊接不易变形,尺寸精度及产品质量高;真空钎焊无需使用钎剂,Y型功分器抗腐蚀性能好。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:一种Y型功分器制造工艺,包括一个上盖板加工步骤、一个下腔体加工步骤和一个真空钎焊成型步骤:
所述的上盖板加工步骤包括以下子步骤:
S11:备料:根据产品设计尺寸将原材料切割出上盖板的外形,包括上盖板本体、边缘凸台和Y分支槽凸止口,预留3~5mm加工余量和3~5mm厚度余量;
S12:数控粗铣:利用数控铣床完成上盖板的粗铣加工,单边留余量2~3mm;
S13:热处理退火:热处理退火温度范围为250~280℃;
S14:数控精铣:利用数控铣床完成上盖板的精铣加工;
所述的下腔体加工步骤包括以下子步骤:
S21:备料:根据产品设计尺寸将原材料切割出下腔体的外形,包括下腔体本体、边缘凹槽和Y分支槽凹止口,预留3~5mm加工余量和3~5mm厚度余量;
S22:数控粗铣:利用数控铣床完成下腔体的粗铣加工,单边留余量2~3mm;
S23:热处理退火:热处理退火温度范围为250~280℃;
S24:数控精铣:利用数控铣床完成下腔体的精铣加工;
所述的真空钎焊成型步骤包括以下子步骤:
S31:试装上盖板和下腔体,确保边缘凸台与边缘凹槽、Y分支槽凸止口与Y分支槽凹止口紧密贴合;
S32:酸洗,去杂质,保证钎焊质量不受影响;
S33:装配上盖板、下腔体、钎料,保证装配后内腔尺寸满足设计要求;
S34:真空钎焊:设置真空钎焊加热曲线,加热保温,615℃温度下完成真空钎焊;
S35:数控加工Y型功分器外形及法兰盘;
S36:钳:钻、铰法兰盘上的销孔;
S37:电化学处理;
S38:调试:测试电讯参数。
所述备料加工上盖板和下腔体过程中,切割边缘凸台、Y分支槽凸止口、边缘凹槽和Y分支槽凹止口时考虑焊片的嵌入厚度,增加配合间隙0.02~0.04mm。
步骤S32所述的杂质包括油污和氧化膜。
所述的上盖板和下腔体采用3A21铝合金板材。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都锦江电子系统工程有限公司,未经成都锦江电子系统工程有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410673505.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





