[发明专利]一种干涉光谱成像仪相位误差修正方法及装置

权利要求书

1.一种干涉光谱成像仪相位误差修正方法，其特征在于，包括：

对干涉光谱成像仪获取的干涉图的小双边部分进行IFFT快速傅立叶逆变换得到相位因子，以及对所述相位因子进行FFT快速傅立叶变换得到对称化函数；

将所述干涉图与所述对称化函数进行卷积处理得到卷积干涉图；

对所述卷积干涉图进行IFFT得到复原光谱函数，以及对所述卷积干涉图的小双边部分进行IFFT得到相位误差因子；

根据所述相位误差因子对所述复原光谱函数进行修正，得到目标光谱函数。

2.根据权利要求1所述的干涉光谱成像仪相位误差修正方法，其特征在于，所述干涉图与所述对称化函数卷积处理的次数小于等于2次；

当所述卷积处理的次数为2次时，将所述干涉图与所述对称化函数进行卷积处理得到卷积干涉图，包括：

将所述干涉图与所述对称化函数进行第一次卷积处理，得到中间卷积干涉图；

将所述中间卷积干涉图与所述对称化函数进行第二次卷积处理，得到卷积干涉图。

3.根据权利要求1或2所述的干涉光谱成像仪相位误差修正方法，其特征在于，所述干涉光谱成像仪相位误差修正方法，对干涉光谱成像仪获取的干涉图的小双边部分进行IFFT得到相位因子之前，还包括：

对所述干涉光谱成像仪获取的干涉图进行预处理，得到预处理干涉图，所述预处理包括滤波以及切趾；

此时，对所述预处理干涉图小双边部分进行IFFT得到相位因子。

4.根据权利要求3所述的干涉光谱成像仪相位误差修正方法，其特征在于，所述相位因子与所述对称化函数F(x)满足：

其中，I′(x)为预处理干涉图，ν为波数，x为光程差。

5.根据权利要求4所述的干涉光谱成像仪相位误差修正方法，其特征在于，将所述干涉图与所述对称化函数进行1次卷积处理得到卷积干涉图I₁(x)时：

I₁(x)进行IFFT得到的复原光谱函数为B₁(ν)，B₁(ν)＝IFFT[I₁(x)]；

对I₁(x)的小双边部分进行IFFT得到相位误差因子为

相位误差因子与目标光谱函数B(v)满足：

其中，real表示取傅立叶变换谱的实数部分；

或者，将所述干涉图与所述对称化函数进行2次卷积处理得到卷积干涉图I₂(x)时：

I₂(x)进行IFFT得到的复原光谱函数为B₂(ν)，B₂(ν)＝IFFT[I₂(x)]；

对I₂(x)的小双边部分进行IFFT得到相位误差因子为

相位误差因子与目标光谱函数B(v)满足：

其中，real表示取傅立叶变换谱的实数部分。

6.一种干涉光谱成像仪相位误差修正装置，其特征在于，包括：

干涉图修正单元，用于对干涉光谱成像仪获取的干涉图的小双边部分进行IFFT快速傅立叶逆变换得到相位因子，以及对所述相位因子进行FFT快速傅立叶变换得到对称化函数；用于将所述干涉图与所述对称化函数进行卷积处理得到卷积干涉图；

光谱修正单元，用于对所述卷积干涉图进行IFFT得到复原光谱函数，以及对所述卷积干涉图的小双边部分进行IFFT得到相位误差因子；用于根据所述相位误差因子对所述复原光谱函数进行修正，得到目标光谱函数。

7.根据权利要求6所述的干涉光谱成像仪相位误差修正装置，其特征在于，所述干涉图与所述对称化函数卷积处理的次数小于等于2次；

当所述卷积处理的次数为2次时，所述干涉图修正单元，具体用于：

将所述干涉图与所述对称化函数进行第一次卷积处理，得到中间卷积干涉图；

将所述中间卷积干涉图与所述对称化函数进行第二次卷积处理，得到卷积干涉图。