[发明专利]小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法及专用镀膜设备

权利要求书

1.小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法，其特征在于，包括如下工艺步骤：将脱脂酸洗后的小尺寸钕铁硼磁体试样与钢珠一起放入专用镀膜设备的滚筒中，关闭炉门抽真空至6-9×10^-3pa后，开启滚筒转动使钢珠与磁体混合均匀，滚筒转速为5-20r/min，继续抽真空至3-6×10^-3pa后，打开氩气至真空度为3-6×10^-1pa后，打开靶源，开始镀膜。

2.根据权利要求1所述的小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法，其特征在于，所述的小尺寸钕铁硼磁体试样的尺寸范围为厚度、长度和宽度方向均小于15mm，且三个方向的尺寸差异小于10mm。

3.根据权利要求1所述的小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法，其特征在于，所述的钢珠大小为Φ2mm-Φ6mm，钢珠的重量为小尺寸钕铁硼磁体试样重量的0.25-1.5倍。

4.根据权利要求1所述的小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法，其特征在于，所述的镀膜方式为多弧离子镀或磁控溅射。

5.实现权利要求1－4的任一小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法的专用镀膜设备，主体结构为卧式，它包括圆筒形炉壁（9），圆筒形炉壁（9）一端设后炉壁（10），形成炉体，炉体下设底架（12），其特征在于，在圆筒形炉壁（9）上设氩气进气口（８）和真空系统抽气口（1），圆筒形炉壁（9）的另一端设炉门（11），炉门（11）上设观察窗（7）；在后炉壁（10）上的转轴（2）上固定滚筒（3），滚筒（3）为网状，一端密闭，滚筒（3）由后炉壁（10）上的转轴（2）带动旋转，滚筒（3）内壁上设搅拌片（4），在圆筒形炉壁（9）上设左靶源（5）和右靶源（6），二者相对应，靶面正对滚筒（3）。

6.根据权利要求5所述的小尺寸钕铁硼磁体表面真空镀膜方法的专用镀膜设备，其特征在于，所述的搅拌片（4）为等腰三角形或梯形。