[发明专利]一种厚度可控纳米多孔金属薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种制备纳米多孔薄膜的制备方法。其特征在于采用脉冲激光沉积方法制备前期合金薄膜；纳米多孔薄膜附着在衬底上，如图2所示，或从衬底上脱落。制备方法如下：

（1）根据所需比例制作镂空的A金属片，A金属片与B金属片复合作为靶材；

（2）在衬底上用脉冲激光沉积方法以靶材为原料沉积一层合金薄膜，激光脉冲腔内真空度10^-5-10⁵Pa，薄膜沉积时衬底温度为50-1100摄氏度，激光频率为1-10Hz，激光能量为50-300mj，根据脉冲激光次数调节合金薄膜厚度。

（3）将合金薄膜放入退火炉中在80-1000摄氏度下退火0.5-6小时。

（4）将退火处理的合金薄膜放入浓度1-10wt% NaOH或1-10wt% H₂SO₄溶液中浸泡脱合金，得到纳米多孔金属薄膜。

2.按权利要求1所述的制备纳米多孔薄膜的制备方法，其特征在于采用脉冲激光沉积方法制备前期合金薄膜。

3.按权利要求1所述的制备纳米多孔薄膜的制备方法，其特征在于靶材为含有多种金属（二种及以上）的复合靶材。

4.按权利要求1所述的制备纳米多孔薄膜的制备方法，其特征在于制备的纳米多孔薄膜可附着在衬底上或从衬底上脱落。