[发明专利]等离子涂敷设备的喷枪的清洁方法以及等离子涂敷设备

权利要求书

1.一种清洁等离子涂敷设备的喷枪（13，113）的方法，其中在涂敷工艺中断期间，喷枪（13，113）被从清洁喷嘴（28，128）排出的清洁剂（30，130）冲击，同时维持等离子，其中附着在喷枪（13，113）处的喷涂材料颗粒（32）由此被移除，

其中，清洁剂（30，130）以这样的方式设计：其在离开清洁喷嘴（28，128）之后变成气态，

其特征在于，将所述清洁剂冲击在所述喷枪上，使得等离子不被直接冲击。

2.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

清洁剂（30，130）以这样的方式设计：其在离开清洁喷嘴（28，128）之前是固体。

3.根据权利要求2所述的方法，

其特征在于，

清洁剂（30，130）是干冰。

4.根据权利要求1所述的方法，

其特征在于，

清洁剂（30，130）以这样的方式设计：其在离开清洁喷嘴（28，128）之前是液体。

5.根据权利要求4所述的方法，

其特征在于，

清洁剂（30，130）是液氮。

6.根据权利要求4所述的方法，

其特征在于，

清洁剂（30，130）是液体二氧化碳。

7.根据前述权利要求1至6中任一项所述的方法，

其特征在于，

喷枪（13，113）在涂敷工艺过程中旋转，并且在清洁剂（30，130）冲击之前，停止这种旋转。

8.根据权利要求7所述的方法，

其特征在于，

在限定的清洁位置，喷枪（13，113）的旋转被停止。

9.根据前述权利要求1至6中任一项所述的方法，

其特征在于，

在被清洁剂（30，130）冲击的过程中，喷枪（13，113）在相对于清洁喷嘴（28，128）的限定的清洁路径上移动。

10.根据前述权利要求1至6中任一项所述的方法，

其特征在于，

在被清洁剂（30）冲击之前，喷枪（13，113）被驱动进入清洁站点（27）。

11.一种具有喷枪（13，113）和清洁喷嘴（28，128）的等离子涂敷设备，其中在涂敷工艺中断的过程中，提供清洁喷嘴（28，128），以使用从清洁喷嘴（28，128）排出的清洁剂（30，130）冲击喷枪（13，113），并且其中附着在喷枪（13，113）处的喷涂材料颗粒由此被移除，

其中，清洁剂（30，130）以这样的方式设定：其在离开清洁喷嘴（28，128）之后转变成气态，

其特征在于，所述喷枪和所述清洁喷嘴布置成使得允许所述清洁剂来冲击在所述喷枪上，而不直接冲击等离子，在所述喷枪的清洁操作期间维持等离子。

12.如权利要求11所述的等离子涂敷设备，

其特征在于，

清洁喷嘴（128）布置在喷枪（113）处。