[发明专利]一种盖板及承载装置有效

专利信息
申请号: 201410532503.3 申请日: 2014-10-10
公开(公告)号: CN105576101B 公开(公告)日: 2018-07-06
发明(设计)人: 张君;李兴存 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/52
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;张天舒
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 盖板 反应区域 托盘 承载装置 通孔 等离子体 承载 盖板上表面 刻蚀均匀性 刻蚀选择比 正相关关系 表面设置 环形区域 通孔位置 通孔周边 良品率 自由基 掩膜 消耗 贯穿
【权利要求书】:

1.一种盖板,用于将多个基片固定在托盘上,且在所述盖板上表面设置有多个贯穿所述盖板厚度的通孔,各个通孔与所述托盘的用于承载各个基片的承载位一一对应,其特征在于,所述盖板上表面采用可消耗等离子体中仅与掩膜发生反应的自由基的材料制成;并且,

所述盖板上表面包括多个反应区域,各个反应区域为一一对应地位于各个通孔周边的环形区域,并且各个反应区域的面积大小和与之对应的通孔位置处的刻蚀选择比大小成正相关关系。

2.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,各个所述反应区域的面积相等。

3.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述盖板采用铝材料制成。

4.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述基片包括蓝宝石衬底。

5.根据权利要求1所述的盖板,其特征在于,所述多个通孔在所述盖板上从中心向边缘均匀设置,所述盖板周向上且靠近所述盖板边缘的各个通孔对应的反应区域的面积与其他通孔对应的反应区域的面积之间的误差范围在3~5%。

6.根据权利要求5所述的盖板,其特征在于,所述多个通孔中一个通孔设置在所述盖板的中心位置,其他所述通孔设置在以中心位置处通孔的中心为中心的N个圈层内,N为≥2的整数;沿所述盖板由中心向边缘的多个所述圈层依次称之为第n个圈层,1<n≤N,且n为整数;其中

M个所述通孔沿所述盖板的周向间隔且均匀设置在第1个圈层内,M为≥3的整数,M个所述通孔的中心连线形成正M边形;

n*M个通孔沿所述盖板的周向间隔设置在第n个圈层内,该n*M个通孔的中心连线形成正M边形;并且

每个通孔和与之相邻的每个通孔之间的中心距相等。

7.根据权利要求6所述的盖板,其特征在于,位于所述盖板的中心位置的所述通孔和位于第1~N-1个圈层内的各个所述通孔对应的反应区域的面积等于正M边形内的盖板上表面积的二分之一;

位于所述第N个圈层内的各个所述通孔对应的反应区域的面积等于与之相邻的各个通孔的中心线形成的图形内的盖板上表面积的二分之一+(盖板的总上表面积-第N个圈层内N*M个通孔的中心线形成的图形内的盖板上表面积)/(N*M)。

8.根据权利要求6或7所述的盖板,其特征在于,N=2,且M=6。

9.一种承载装置,包括托盘和盖板,所述托盘用于承载多个基片,所述盖板叠置在所述托盘上,用以将所述基片固定在所述托盘上,其特征在于,所述盖板采用权利要求1-8任意一项所述的盖板。

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