[发明专利]阵列基板、掩膜板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201410515822.3 申请日: 2014-09-29
公开(公告)号: CN104299974B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 白珊珊;嵇凤丽;玄明花;刘建涛;许静波 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L51/52;H01L27/32;G03F1/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 柴亮,张天舒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 阵列 掩膜板 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括多个具有发光层的子像素,其特征在于,

所述子像素分为排成矩阵的多个第一类子像素,以及在行、列方向上均位于相邻的第一类子像素之间的第二类子像素;

每个所述第二类子像素和至少一个与其相邻的第一类子像素颜色相同。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,

部分第一类子像素和处于其相邻行、相邻列的一个第一类子像素颜色相同且二者之间无第二类子像素。

3.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,包括多个排成阵列的重复单元,每个重复单元包括按照以下方式排列的8个第一类子像素和4个第二类子像素:

第一类子像素               第一类子像素

            第二类子像素

第一类子像素               第一类子像素

            第二类子像素

第一类子像素               第一类子像素

            第二类子像素

第一类子像素               第一类子像素

            第二类子像素。

4.根据权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,每个重复单元中的12个子像素分为3个第一颜色子像素、3个第二颜色子像素、3个第三颜色子像素;且在阵列基板中,

同一列的子像素中同颜色的子像素不相邻;

同一行的子像素中同颜色的子像素不相邻。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,在每个重复单元中,各颜色的子像素排列方式如下:

第一颜色子像素               第二颜色子像素

             第三颜色子像素

第三颜色子像素               第一颜色子像素

             第二颜色子像素

第二颜色子像素               第三颜色子像素

             第一颜色子像素

第三颜色子像素               第一颜色子像素

             第二颜色子像素。

6.根据权利要求1或2所述的阵列基板,其特征在于,

第二类子像素的发光层沿列方向的投影,和与该第二类子像素相邻的两列第一类子像素的发光层沿列方向的投影分别部分重合;

第二类子像素的发光层沿行方向的投影,和与该第二类子像素相邻的两行第一类子像素的发光层沿行方向的投影分别部分重合。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于,

所述发光层的形状为平行四边形,所述平行四边形的每个侧边相对所述行方向和列方向均是倾斜设置的。

8.根据权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,

每个所述第二类子像素的发光层均具有两个相对侧边,该两个侧边分别和与该第二类子像素同颜色且相邻的第一类子像素的发光层的两个相对侧边处于相同的直线中。

9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,

所有发光层的形状均为等边长的菱形,所有菱形均有一对侧边平行于第一方向,另一对侧边平行于第二方向。

10.一种掩膜板,其特征在于,

所述掩膜板用于蒸镀权利要求1至9中任意一项所述的阵列基板中的发光层;

所述掩膜板包括带有多个开口的板体,所述开口设于对应所述阵列基板中同颜色子像素的发光层的位置处,且所述两个同颜色且相邻的子像素中的发光层对应一个开口。

11.一种显示装置,其特征在于,包括:

权利要求1至9中任意一项所述的阵列基板。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司,未经京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410515822.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top