[发明专利]丝网印刷机、元件安装线和丝网印刷方法有效
| 申请号: | 201410497539.2 | 申请日: | 2014-09-25 |
| 公开(公告)号: | CN104512094B | 公开(公告)日: | 2019-03-05 |
| 发明(设计)人: | 万谷正幸;村上俊行 | 申请(专利权)人: | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号: | B41F15/08 | 分类号: | B41F15/08;B41F35/00 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 卢亚静 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 掩模 基板保持器 基板 丝网印刷机 下方位置 成像 撤回位置 基板接触 升降机构 丝网印刷 元件安装 对基板 水平移动机构 成像装置 清洁掩模 向上移动 掩模分离 掩模清洁 上移动 下表面 印刷头 膏剂 清洁 印刷 移动 | ||
本发明公开了丝网印刷机、元件安装线和丝网印刷方法。丝网印刷机包括:基板保持器,保持基板;掩模,与基板接触;成像装置,对基板进行成像;升降机构,基于成像的结果,使位于掩模下方的掩模下方位置的基板保持器向上移动以使基板与掩模接触;水平移动机构,使基板保持器在掩模下方位置与沿水平方向从掩模下方位置撤回的撤回位置之间移动;印刷头,在与基板接触的掩模上移动,并经由掩模将膏剂印刷在基板上;和掩模清洁器,在基板通过升降机构与掩模分离的状态下清洁掩模的下表面。对基板的成像和对掩模的清洁是在基板保持器位于撤回位置的状态下执行的。
技术领域
本发明的一个或多个实施例涉及一种经由掩模将膏剂印刷在基板上的丝网印刷机、一种构造成包括该丝网印刷机的元件安装线、以及一种丝网印刷方法。
背景技术
丝网印刷机构造成通过使由基板保持器保持的基板从下方与掩模接触,然后通过使诸如刮板的印刷头在掩模上移动,而在基板上印刷膏剂。这里,基板与掩模之间的接触基于通过使用诸如照相机的成像装置对基板进行成像而获得的成像结果(有关基板位置的信息)来执行。此外,为了提高印刷精度,还要通过使掩模清洁器在与基板分离的掩模的下表面上滑动来执行掩模清洁以去除附着到掩模的膏剂。
在丝网印刷机中,成像装置对基板的成像和掩模清洁器对掩模的清洁如上所述来执行。然而,由于成像装置和掩模清洁器设置在基板保持器与掩模之间的区域中,因此难以并行地执行成像和清洁,而必须在不同时间顺次执行成像和清洁(例如参见专利文献1)。
专利文献1是JP-A-2013-43418。
发明内容
然而,当如上所述在不同时间执行基板的成像和掩模的清洁时,一个操作要等待另一操作的结束,因此存在以下担忧:对应于等待,可能引起时间损失,节拍时间可能因此恶化。特别地,在需要高印刷精度的细节距印刷中,由于每当在每一基板上执行丝网印刷时都必须清洁掩模,因此时间损失具有相当大的影响。
本发明的一个或多个实施例的目的是提供能够并行地执行基板的成像和掩模的清洁并且能够防止节拍时间恶化的丝网印刷机、元件安装线和丝网印刷方法。
(1)一种丝网印刷机包括:基板保持器,保持基板;掩模,与基板接触;成像装置,对由基板保持器保持的基板进行成像;升降机构,基于成像装置对基板进行成像的结果,使位于掩模下方的掩模下方位置的基板保持器向上移动以使由基板保持器保持的基板与掩模接触;水平移动机构,使基板保持器在掩模下方位置与沿水平方向从掩模下方位置撤回的撤回位置之间移动;印刷头,在与基板接触的掩模上移动,并经由掩模将膏剂印刷在基板上;和掩模清洁器,在基板通过升降机构与掩模分离的状态下,清洁掩模的下表面,其中,成像装置对基板的成像和掩模清洁器对掩模的清洁是在基板保持器被水平移动机构定位在撤回位置的状态下执行的。
(2)在根据(1)的丝网印刷机中,成像装置对基板的成像和掩模清洁器对掩模的清洁并行地执行。
(3)一种元件安装线包括:根据(1)或(2)的丝网印刷机;和元件安装机,将元件安装在丝网印刷机印刷了膏剂的基板上。
(4)一种丝网印刷方法包括:通过基板保持器保持基板;通过成像装置对由基板保持器保持的基板进行成像;基于对基板进行成像的结果,通过使基板保持器在掩模下方的掩模下方位置向上移动,使由基板保持器保持的基板与掩模接触;使印刷头在掩模上移动以经由掩模将膏剂印刷在基板上;和在基板与掩模分离的状态下,通过掩模清洁器清洁掩模的下表面,其中,对基板的成像和对掩模的清洁是在基板保持器位于沿水平方向从掩模下方位置撤回的撤回位置的状态下执行的。
(5)在根据(4)的丝网印刷方法中,对基板的成像和对掩模的清洁并行地执行。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于松下知识产权经营株式会社,未经松下知识产权经营株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410497539.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有保持件的电池模块
- 下一篇:半导体器件及其制造方法





