[发明专利]用于附着玻璃与掩模的设备及方法、以及用于装载基板的系统及方法有效
| 申请号: | 201410438438.8 | 申请日: | 2014-08-29 |
| 公开(公告)号: | CN104752636B | 公开(公告)日: | 2017-08-15 |
| 发明(设计)人: | 姜敞皓;赵灿熙;朴珉镐 | 申请(专利权)人: | SFA工程股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/56 | 分类号: | H01L51/56;H01L51/50;H01L21/027 |
| 代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人: | 徐伟 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 用于 附着 玻璃 设备 方法 以及 装载 系统 | ||
1.一种用于附着基板与掩模的设备,其特征在于,包括:
掩模支撑单元,支撑由金属材料形成的掩模;
磁性卡盘,设置于所述掩模支撑单元上方并产生磁性力以附着至所述掩模,在所述磁性卡盘与所述掩模之间夹置有基板;
磁性卡盘上/下驱动单元,连接至所述磁性卡盘并上下驱动所述磁性卡盘;以及
控制器,控制所述磁性卡盘上/下驱动单元的操作,以改变所述磁性卡盘的位置,进而防止在所述掩模的返回操作期间由于所述磁性力的干扰而使所述掩模与所述磁性卡盘相互接触;
其特征在于,所述掩模包括掩模片材,所述掩模片材被形成为多个层形式、支撑所述基板并紧密接触所述基板;
呈多个层形式的所述掩模片材包括基板支撑掩模片材,支撑所述基板;
其特征在于,在所述基板支撑掩模片材中形成多个孔以进行弯曲;
其特征在于,所述多个孔分别具有狭槽形状并沿所述基板支撑掩模片材的边缘顺次排列。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述控制器控制所述磁性卡盘上/下驱动单元的操作,以使得在所述掩模的所述返回操作期间,所述磁性卡盘相对于所述掩模向上移动以自所述掩模分离。
3.如权利要求1所述的设备,其特征在于,还包括由所述控制器控制的多个玻璃支撑销,所述多个玻璃支撑销被设置成能够相对于所述掩模支撑单元上下移动、并自所述基板下方支撑欲附着至所述掩模的所述基板。
4.如权利要求3所述的设备,其特征在于,还包括由所述控制器控制的多个玻璃固定销,所述多个玻璃固定销被设置成能够相对于所述磁性卡盘上下移动、并与多个基板支撑销固定所述基板的位置。
5.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述磁性卡盘包括多个磁体,且多个销孔形成于所述多个磁体之间。
6.如权利要求5所述的设备,其特征在于,所述多个磁体是永久磁体。
7.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述掩模还包括掩模框架,所述掩模框架被焊接至呈多个层形式的所述掩模片材。
8.如权利要求1所述的设备,其特征在于,呈多个层形式的所述掩模片材更包括:
基板接触掩模片材,与所述基板支撑掩模片材存在表面接触、并紧密接触所述基板。
9.如权利要求8所述的设备,其特征在于,所述基板接触掩模片材的厚度小于所述基板支撑掩模片材的厚度。
10.如权利要求8所述的设备,其特征在于,所述基板支撑掩模片材的厚度为0.2mm至0.3mm,且所述基板接触掩模片材的厚度为0.02mm。
11.如权利要求8所述的设备,其特征在于,所述基板支撑掩模片材与所述基板接触掩模片材是由殷钢材料形成、并焊接至彼此。
12.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述基板是有机发光二极管,且所述基板是尺寸2m×2m的大基板。
13.一种用于附着基板与掩模的方法,其特征在于,所述方法包括:
掩模支撑操作,其中将由金属材料形成的掩模返回并支撑于掩模支撑单元上;
磁性卡盘分离操作,其中将磁性卡盘向上移动以自所述掩模分离,所述磁性卡盘被设置于所述掩模支撑单元上方并产生磁性力以附着至所述掩模,在所述磁性卡盘与所述掩模之间夹置有基板;
基板支撑及对准操作,其中将所述基板设置于所述掩模上方并支撑及对准于向上移动的多个基板支撑销上;
基板位置固定操作,其中通过相对于所述磁性卡盘向下移动的多个基板固定销来固定所述基板的位置;
基板容纳操作,其中所述多个基板固定销及所述多个基板支撑销向下移动并因而将所述基板容纳于所述掩模上;以及
基板与掩模附着操作,其中所述磁性卡盘向下移动至所述基板上,并因而通过所述磁性卡盘的磁性力将所述基板与所述掩模附着至彼此。
14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,在所述基板与掩模附着操作之后还包括:
销移除操作,其中移除所述多个基板支撑销及所述多个基板固定销;以及
附加附着操作,其中所述磁性卡盘朝所述基板进一步向下移动,并因而增大所述基板与所述掩模之间的附着力。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
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