[发明专利]一种光刻机光源的优化方法有效
| 申请号: | 201410422502.3 | 申请日: | 2014-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN104155852A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
| 发明(设计)人: | 王磊;王向朝;李思坤;闫观勇;杨朝兴 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/76 |
| 代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 张泽纯;张宁展 |
| 地址: | 201800 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 光刻 光源 优化 方法 | ||
1.一种光刻机光源优化方法,其特征在于,该方法包含以下步骤:
①初始化光源图形J的大小为Ns×Ns,设置光源图形J上发光区域的亮度值为1,不发光区域的亮度值为0,光源图形J的坐标为(f,g);
初始化掩模图形M的大小为Nm×Nm,设置掩模图形M上透光部分的透射率为1,阻光部分的透射率为0,掩模图形M的坐标为(x,y);
初始化目标图形It=M;初始化光刻胶阈值tr和灵敏度α;初始化粒子群规模N、学习因子c1和c2、惯性权重最大值ωmax和最小值ωmin;初始化各粒子的位置和速度其中i(1≤i≤N)为粒子编号,j(j≥1)为粒子维度,k(k=1)为迭代次数;初始化评价函数阈值Fs、最大迭代次数km;
②初始化光源图形J对应的控制变量θ,θ(f,g)表示坐标为(f,g)的控制变量θ,对应于某粒子的位置信息xi,j;
③采用粒子群算法优化控制变量θ,并计算第k次迭代时的光源图形J(k),公式如下:
式中,θ(k)表示第k(1≤k≤km,且k为正整数)次迭代时的控制变量θ值;
④采用光刻仿真软件,由光源图形J(k)和掩模图形M得到第k次迭代时的空间像Ia(k),并计算第k次迭代时的光刻胶像Ir(k),公式如下:
⑤计算第k次迭代时的评价函数值F(k),公式如下:
⑥定义第k次迭代时粒子本身所找到的使得评价函数值最小的位置为第k次迭代时的个体极值
第k次迭代时,将F(k)与对应的评价函数值比较,如果F(k)小于对应的评价函数值,则更新为θ(k)(f,g),其中θ(k)(f,g)为第k次迭代时的θ(f,g);
⑦定义第k次迭代时整个种群中粒子找到的使得评价函数值最小的位置为第k次迭代时的全局极值
第k次迭代时,将F(k)与对应的评价函数值比较,如果F(k)小于对应的评价函数值,则更新为θ(k)(f,g);
⑧计算粒子第(k+1)次的速度和位置
式中,压缩因子C=c1+c2,
惯性权重
为第k次迭代时第i个粒子第j维上的
为第k次迭代时第g个粒子第j维上的
⑨如果F(k)小于Fs,或者k大于km,进入步骤⑩,否则返回步骤③;
⑩终止优化,为全局极值pg,将pg所表示的信息作为优化后光源输出。
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