[发明专利]薄膜形成装置在审
| 申请号： | 201410345161.4 | 申请日： | 2014-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN104294235A | 公开（公告）日： | 2015-01-21 |
| 发明（设计）人： | 梨木智刚;滨田明 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 薄膜 形成 装置 | ||
1.一种薄膜形成装置，其用于利用溅射法在自卷绕长条膜基材而成的放卷卷放出并沿长度方向移动的上述长条膜基材的表面上连续地进行薄膜的成膜，其特征在于，
该薄膜形成装置包括：
真空室；
成膜辊，其收纳在上述真空室内，将移动的上述长条膜基材部分地卷绕于该成膜辊的外周面；
靶材，其以与上述成膜辊相对的方式配置在上述成膜辊的上述长条膜基材的卷绕位置处的上述成膜辊的径向外侧；
气体供给部件，其用于向上述真空室内供给用于上述成膜的气体；以及
气体分压测定部件，其用于测定上述真空室内的每种气体的分压，
上述气体供给部件具有：沿上述长条膜基材的宽度方向排列设置在上述真空室内的气体供给部，该气体供给部为多个；能够针对每个该气体供给部分别调整气体的供给量的供给量调整部，
上述气体分压测定部件具有：沿上述长条膜基材的宽度方向排列设置的测定部，该测定部为多个，用于测定该测定部的各自的设置位置处的上述气体的分压。
2.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，
上述测定部分别以与上述气体供给部的在上述长条膜的宽度方向上的各自的设置位置相对应的方式设置。
3.根据权利要求2所述的薄膜形成装置，其特征在于，
上述气体是用于上述成膜的反应性气体。
4.根据权利要求3所述的薄膜形成装置，其特征在于，
上述气体分压测定部件是四极质谱计。
5.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，
上述气体是用于上述成膜的反应性气体。
6.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，
上述气体是用于引起溅射的非活性气体。
7.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，
上述气体是含有用于引起溅射的非活性气体和用于上述成膜的反应性气体的混合气体。
8.根据权利要求1所述的薄膜形成装置，其特征在于，
上述气体分压测定部件是四极质谱计。
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