[发明专利]有机发光显示设备及其制造方法

权利要求书

1.有机发光显示设备，其包括：

衬底；

在所述衬底上形成的显示单元；

覆盖所述显示单元的封装层；以及

在所述封装层上形成的保护层，

其中

所述封装层由低温粘度转变无机材料形成，其中所述低温粘度转变无机材料是玻璃化转变温度为200℃以下的低液相线温度材料，以及

所述保护层由基于硅的光固化或热固化的弹性、粘性树脂形成以使所述封装层免受外力。

2.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中所述保护层的厚度为1μm至20μm。

3.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中所述保护层的厚度为3μm至10μm。

4.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中所述封装层包含锡氧化物。

5.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其中所述封装层包含氟磷酸锡玻璃、硫属化物玻璃、亚碲酸盐玻璃、硼酸盐玻璃和磷酸盐玻璃中至少之一。

6.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其还包括在所述保护层上的强化层。

7.如权利要求6所述的有机发光显示设备，其中所述强化层包含双酚A、酚醛清漆、双酚F、聚酯-丙烯酸酯、聚氨酯-丙烯酸酯和环氧-丙烯酸酯中至少之一。

8.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其还包括插在所述封装层与所述保护层之间的接合层。

9.如权利要求1所述的有机发光显示设备，其还包括在所述保护层上的上膜。

10.如权利要求9所述的有机发光显示设备，其中所述上膜包括组成接触面板的膜。

11.制造有机发光显示设备的方法，其包括：

在衬底上形成显示单元；

在所述衬底上形成封装层，所述封装层覆盖所述显示单元；

在所述封装层上形成保护层；以及

在所述保护层上堆叠上膜，

其中

所述封装层由低温粘度转变无机材料形成，其中所述低温粘度转变无机材料是玻璃化转变温度为200℃以下的低液相线温度材料，以及

所述保护层由基于硅的光固化或热固化的弹性、粘性树脂形成。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述封装层的形成包括：

在所述显示单元上沉积所述低温粘度转变无机材料的初始层；以及

通过在与所述低温粘度转变无机材料的粘度转变温度基本相同或更高的温度下，在所述初始层上进行热处理，从而修复所述初始层。

13.如权利要求11所述的方法，其中所述保护层形成为1μm至20μm的厚度。

14.如权利要求11所述的方法，其中所述保护层形成为3μm至10μm的厚度。

15.如权利要求11所述的方法，其还包括在形成所述保护层之后，在所述保护层上形成强化层。

16.如权利要求15所述的方法，其中所述强化层包含双酚A、酚醛清漆、双酚F、聚酯-丙烯酸酯、聚氨酯-丙烯酸酯和环氧-丙烯酸酯中至少之一。

17.如权利要求14所述的方法，其还包括在形成所述保护层之前，在所述封装层上形成接合层。