[发明专利]有机发光器件、显示设备、图像信息处理设备和图像形成设备无效

专利信息
申请号: 201410317458.X 申请日: 2014-07-04
公开(公告)号: CN104282835A 公开(公告)日: 2015-01-14
发明(设计)人: 伊藤希之;山田直树;西出洋祐 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/52
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 有机 发光 器件 显示 设备 图像 信息处理 形成
【说明书】:

技术领域

本发明涉及有机发光器件,以及各自使用所述器件的显示设备、图像信息处理设备和图像形成设备。

背景技术

有机发光器件是包括由阳极和阴极形成的一对电极、和位于这对电极之间的有机化合物层的电子元件。从这对电极注入电子和空穴,以在有机化合物层中产生有机发光化合物的激子。当激子回到它的基态时,有机发光器件发光。

近年来,在要被组装在各种信息处理设备中的显示设备中,对降低电力消耗,存在特别增长的需求。此外,为了满足该要求,消耗少量电力的有机发光器件已经被用作显示设备用的一个构件。此外,最近,已经做出改善有机发光器件效率的尝试,并且已经做出一些具体的建议。日本专利申请特开2007-536718公开了:将空穴输送性材料和绝缘性低折射率材料混合,以形成其本身折射率降低的空穴输送层(低折射率层)。此外,日本专利申请特开2007-536718公开了:形成低折射率层作为有机发光器件用的组成元件,以改善有机发光器件的发光效率。而且,日本专利申请特开2007-536718描述了:在电荷传输层中形成空隙(void),以减少含有电荷输送性材料的层的折射率。

然而,在日本专利申请特开2007-536718中提议的低折射率层,增加了元件的驱动电压,因此从电力消耗的观点出发已经有问题。

在这里,低折射率层的引入增加驱动电压的事实的可能原因描述如下。也就是说,在通过将电荷输送性材料和绝缘性低折射率材料(或空隙)混合获得的混合层中,在混合层中电荷输送性材料的分子之间的间隔(分子间距离)倾向于变大。组成有机发光器件的层的电荷输送性,取决于电荷输送性材料的分子间距离,因此,当电荷输送性材料的分子间距离扩大时,含有该电荷输送性材料的层的电荷输送性降低。此外,绝缘性低折射率材料(或空隙)在层中的存在,导致在电荷输送性材料中形成电荷陷阱,并降低电荷跳跃概率。因此,在电荷输送性材料的分子之间的电荷传输特性显著降低,结果是驱动电压升高。

此外,由于下面所述的理由,可以通过降低膜的密度,来实现含有电荷输送性材料的膜的折射率下降。然而,难以抑制驱动电压的增加。

由下面等式(I)表示的洛伦兹-洛仑兹方程,作为与折射率和化学结构有关的等式是可用的。

n2-1n2+1=[R](Mρ)=[R]M×ρ---[I]]]>

(n:折射率,[R]:分子折射,M:分子量(g/mol),ρ:密度(g/cm3))

通常,有机半导体材料通过π电子的跳跃实现电荷的输送。因此,具有π-共轭结构的芳族有机化合物被用作有机半导体。此外,有机EL材料通常是固体的,因此,在等式(I)中M(分子量)为400以上。在等式(I)中的[R](分子折射),其被作为构成分子的原子折射率的总和而求得,大致为140以上。此外,分子量和分子折射基本上与构成材料的原子数成比例。考虑到前述事项,在有机半导体材料中,在等式[I]中的比例[R]/M的粗略估算值为大约0.3。于是,考虑到等式[I],降低密度(ρ),可以说是降低含有有机半导体材料的层的折射率所需要的。

然而,降低密度(ρ),降低了膜中的分子密度,结果是,扩大了膜中化合物的分子间距离。结果,电荷跳跃概率降低,且电荷迁移率降低,这导致有机发光器件的电压增加。

由于引入低折射率层而增加电压的另一个原因是:受由下式[II]表示的低折射率层的低介电常数特性的影响。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410317458.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top