[发明专利]一种CMP片状研磨修整器及其生产方法有效
| 申请号: | 201410313824.4 | 申请日: | 2014-07-03 |
| 公开(公告)号: | CN104084884A | 公开(公告)日: | 2014-10-08 |
| 发明(设计)人: | 邹余耀 | 申请(专利权)人: | 南京三超金刚石工具有限公司 |
| 主分类号: | B24B53/12 | 分类号: | B24B53/12;B24B53/017 |
| 代理公司: | 江苏圣典律师事务所 32237 | 代理人: | 朱庆华 |
| 地址: | 211124 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 cmp 片状 研磨 修整 及其 生产 方法 | ||
1.一种CMP片状研磨修整器,其包括修整本体,其特征在于,所述修整本体包括由外到内依次设置的超细磨粒层、中间层和基体层,所述中间层为低熔点金属或结合剂,所述超细磨粒层通过低熔点金属或结合剂与所述基体层连接。
2.一种CMP片状研磨修整器的生产方法,其特征在于,包括步骤:
a)母板上预镀超细磨粒;
在母板上预镀超细磨粒后,再正式电镀固定砂粒,形成超细磨粒层;
b)把固定在母板的超细磨粒层反转后装到基体层上;
使用夹具把固定在母板的超细磨粒装到基体层上,接合时基体层和超细磨粒层尖端平行,所述基体层和所述超细磨粒层之间用低熔点金属或结合剂连接;
c)除去母板;
d)化学处理,把15%的HCl与Na2B4O7混合,并升温至50℃。
3.根据权利要求2所述的一种CMP片状研磨修整器的生产方法,其特征在于,所述步骤a中的正式电镀镀层的厚度是超细磨粒粒径的100%~200%。
4.根据权利要求2所述的一种CMP片状研磨修整器的生产方法,其特征在于,所述步骤b中使用的低熔点金属的熔点在200℃以下。
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