[发明专利]一种显示面板及其制造方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201410302667.7 申请日: 2014-06-27
公开(公告)号: CN104133329B 公开(公告)日: 2017-06-09
发明(设计)人: 周海峰;张卓;王雪岚 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1333;G02F1/1335;G09F9/33;G09F9/30
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 显示 面板 及其 制造 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种显示面板,其特征在于,包括相对设置的衬底基板和对置基板,所述衬底基板之上设置有第一电极,所述对置基板之上设置有与所述第一电极相对的第二电极,所述第一电极和所述第二电极之间设置有:多个依次排列的原始子像素,部分所述原始子像素之上设置有转换子像素,所述转换子像素之上设置有上层水层;

所述转换子像素用于在所述第一电极与所述第二电极之间产生电场时收缩至一侧以使所述上层水层覆盖于所述原始子像素之上;

所述转换子像素用于在所述第一电极与所述第二电极之间未产生电场时覆盖于位于所述转换子像素下方的原始子像素之上;

所述原始子像素的材料包括双亲性材料,在所述第一电极与所述第二电极之间产生电场时在所述电场作用下所述原始子像素具有亲水性,在所述第一电极与所述第二电极之间未产生电场时所述原始子像素具有疏水性;或

所述原始子像素和所述转换子像素之间设置有双亲性材料层,在所述第一电极与所述第二电极之间产生电场时在所述电场作用下所述双亲性材料层具有亲水性,在所述第一电极与所述第二电极之间未产生电场时所述双亲性材料层具有疏水性。

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,还包括围绕所述转换子像素和所述上层水层设置的挡板,所述挡板用于将所述转换子像素限制在所述转换子像素下方的原始子像素之上。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,还包括黑矩阵,所述挡板设置于所述转换子像素下方的原始子像素两侧的黑矩阵之上。

4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,位于所述转换子像素下方的所述原始子像素为白色子像素,所述转换子像素为黄色油墨层。

5.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求1至4任一所述的显示面板。

6.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:

在衬底基板上形成第一电极;

在所述第一电极之上形成多个依次排列的原始子像素;

在部分所述原始子像素的上方形成转换子像素;

在所述转换子像素之上形成上层水层;

在对置基板之上形成第二电极;

将完成上述步骤的衬底基板和对置基板对盒,形成显示面板;其中,

所述转换子像素用于在所述第一电极与所述第二电极之间产生电场时收缩至一侧以使所述上层水层覆盖于所述原始子像素之上;

所述转换子像素用于在所述第一电极与所述第二电极之间未产生电场时覆盖于位于所述转换子像素下方的原始子像素之上;所述原始子像素的材料包括双亲性材料,在所述第一电极与所述第二电极之间产生电场时在所述电场作用下所述原始子像素具有亲水性,在所述第一电极与所述第二电极之间未产生电场时所述原始子像素具有疏水性;

或者,所述在部分所述原始子像素的上方形成转换子像素的步骤之前包括:在部分所述原始子像素之上形成双亲性材料层,所述双亲性材料层在所述第一电极与所述第二电极之间产生电场时在所述电场作用下具有亲水性,所述双亲性材料层在所述第一电极与所述第二电极之间未产生电场时具有疏水性;所述在部分所述原始子像素的上方形成转换子像素的步骤包括:在所述双亲性材料层之上形成转换子像素。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制造方法,其特征在于,所述在部分所述原始子像素的上方形成转换子像素的步骤之前包括:

在部分所述原始子像素之上形成挡板,所述挡板用于将所述转换子像素限制在所述转换子像素下方的原始子像素之上。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制造方法,其特征在于,所述在部分所述原始子像素之上形成挡板,所述挡板用于将所述转换子像素限制在所述转换子像素下方的原始子像素之上的步骤之前包括:

在所述第一电极之上形成黑矩阵,所述挡板设置于所述转换子像素下方的原始子像素两侧的黑矩阵之上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410302667.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top