[发明专利]基于分布式控制的束流自动校正系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种分布式控制系统，具体涉及基于分布式控制的束流自动校正系统，其用于实现加速器厅的能量控制和束流控制。

背景技术

在高频高压型加速器领域中，纵观国内几家加速器厂商的产品，在提高控制系统的控制水平上，有了一些改进，但是，针对其中的两大控制策略，即能量控制和束流控制，仍然没有突破性的研究成果。

另外，目前的加速器厅的控制系统一般采用集中式控制系统，即通常只有一个站点，因此，当加速器厅中存在两台以上的加速器同时工作时，则各加速器之间的电磁信号往往存在相互干扰，导致各加速器所对应的打火报警模块间的干扰或者误报，不利于多个加速器同时工作，其稳定性和可靠性得不到有效的保证。

发明内容

本发明针对现有技术的不足，提供基于分布式控制的束流自动校正系统，将现有的集中式控制系统（一个站点）改进为分散式控制系统（一个主站、三个子站），解决多台加速器同时工作时的相互干扰问题。

为实现以上的技术目的，本发明将采取以下的技术方案：一种基于分布式控制的束流自动校正系统，包括一个1#主站以及三个子站，所述的三个子站分别为：2#子站、3#子站、4#子站；所述的1#主站通过总线网络分别与2#子站、3#子站、4#子站进行数据交互；同时1#主站通过以太网与PC机数据交互；所述1#主站根据所接收到的辐照厅的安全联锁信号、所有电源的联锁信号和控制信号，执行束流校正控制；2#子站用于对高频机的相关信号做出逻辑判断，完成高频机的能量控制；3#子站用于传送加速器厅的安全联锁信号、步进电机控制信号、能量信号、束流信号、管流信号到1#主站；4#子站用于传送真空计发送的真空度信号到1#主站。

作为本发明的进一步改进，本发明所述的1#主站安装在控制室内，2#子站安装在高频机附近，3#子站位于加速器厅外墙附近，4#子站与3#子站同在一个箱体内。

作为本发明的进一步改进，本发明所述高频机的相关信号包括高频机开关量信号、高频机阳压阳流信号、高频机能量设定信号以及高频机紧急关断信号。

作为本发明的进一步改进，本发明所述的1#主站采用芯片PLC S7-300。

作为本发明的进一步改进，本发明所述的2#子站采用芯片PLC S7-200。

作为本发明的进一步改进，本发明所述的3#子站采用芯片ET200M。

作为本发明的进一步改进，本发明所述的4#子站采用芯片Profibus-dp转RS485模块。

根据以上的技术方案，相对于现有技术，本发明具有以下的优点：

本发明将现有的集中式控制系统（一个站点）改进为分散式控制系统（一个主站、三个子站），解决多台加速器同时工作时的相互干扰问题。

附图说明

图1是本发明所述分布式控制系统的结构流程框图。

具体实施方式

附图非限制性地公开了本发明所涉及优选实施例的结构示意图；以下将结合附图详细地说明本发明的技术方案。

    如图1所示，本发明所述的基于分布式控制的束流自动校正系统

，包括以下几个部分：1#主站（PLC S7-300）、2#子站（PLC S7-200）、3#子站（ET200M）、4#子站（Profibus-dp转RS485模块）PC机，各部分具体为：

1、1#主站（PLC S7-300）

位于控制室，作为主PLC使用，通过现场总线网络，可以与2#、3#、4#子站进行数据交互，通过以太网可以和PC机实现数据交互，该控制器主要接收辐照厅的安全联锁信号，所有电源的联锁信号和控制信号，执行束流开环控制和闭环控制，实现束流自动校正程序；其中，1#主站的受控信号包括辐照厅开关量信号，能量、束流、管流信号，聚导电源信号，扫描电源信号。

2、2#子站（PLC S7-200）

位于高频机附近，作为子站使用，通过现场总线网络，可以和1#主站实现数据交互，该控制器可以对高频机的相关信号做出逻辑判断，对高频机进行能量的开环和闭环控制；其中，2#子站的受控信号包括高频机开关量信号，高频机阳压阳流信号，高频机能量设定信号，高频机紧急关断信号。

3、3#子站（ET200M）

位于加速器厅外墙附近，通过现场总线网络，可以和1#主站实现数据交互，该站主要接收加速器厅的安全联锁信号，步进电机控制信号，能量、束流、管流信号等等；3#子站的受控信号包括加速器厅开关量信号，步进电机控制信号，火花探测信号，真空报警信号。