[发明专利]一种脉宽展宽激光退火装置在审
| 申请号: | 201410285144.6 | 申请日: | 2014-06-24 |
| 公开(公告)号: | CN105206517A | 公开(公告)日: | 2015-12-30 |
| 发明(设计)人: | 徐建旭;兰艳平 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/268 | 分类号: | H01L21/268;G02B27/09 |
| 代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 宽展 激光 退火 装置 | ||
1.一种脉宽展宽激光退火装置,其特征在于,包括:一光源发出的光束经过一脉宽调整单元调整所述光束的时域分布及脉宽,所述调整后的光束依次经过一准直扩束单元、匀光单元后进入一聚焦单元将所述光束聚焦后入射一基底;所述脉宽调整单元按照光束传播的方向依次包括一偏振分束器、一光线延迟单元和一偏振合束器。
2.如权利要求1所述的脉宽展宽激光退火装置,其特征在于,所述偏振分束器将所述光束分为P偏振光和S偏振光,所述光线延迟单元位于所述P偏振光或所述S偏振光的光路上,所述偏振合束器用于将经所述光线延迟单元处理的P偏振光和S偏振光合为一束。
3.如权利要求2所述的脉宽展宽激光退火装置,其特征在于,所述光线延迟单元包括一偏振分光棱镜,1/4波片,反射镜和角锥反射棱镜;入射偏振激光束经所述偏振分光棱镜、1/4波片后经所述反射镜反射,又入射至所述1/4波片,再经所述偏振分光棱镜反射到所述角锥反射棱镜,再经所述角锥反射棱镜反射,反射后的光束与所述入射偏振激光束分开再次入射至所述偏振分光棱镜,再入射至所述1/4波片,再经反射镜反射,再入射至1/4波片,形成出射偏振激光束后经偏所述振分光棱镜离开所述光线延迟单元。
4.如权利要求3所述的脉宽展宽激光退火装置,其特征在于,所述光线延迟单元还包括一水平移动台,所述水平移动台改变所述光束经过的光程以调整脉宽。
5.如权利要求1所述的脉宽展宽激光退火装置,其特征在于,所述光源是红外光、可见光或紫外光。
6.如权利要求1所述的脉宽展宽激光退火装置,其特征在于,所述光源发出的光束为至少两束。
7.如权利要求2所述的脉宽展宽激光退火装置,其特征在于,所述偏振分束器将所述光束分为任意比例的P偏振光和S偏振光。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





