[发明专利]硅原材料的清洗方法有效
| 申请号： | 201410236921.8 | 申请日： | 2014-05-30 |
| 公开（公告）号： | CN104028503A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 刘彬国;席骁;何京辉;曹祥瑞;刘彬 | 申请（专利权）人： | 邢台晶龙电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/08;B08B3/02 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 陆林生 |
| 地址： | 054001 河北省*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 原材料 清洗 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种硅原材料的清洗方法，其特征在于包括下述步骤：
（1）采用洗液对硅原材料表面进行擦拭；所述洗液的重量组成为：硅片清洗剂 25-35%、余量为纯水；
（2）高压水枪冲洗3-8分钟；
（3）超声清洗；超声清洗温度为35-45℃，时间为15-20分钟。
2.根据权利要求１所述的硅原材料的清洗方法，其特征在于所述高压水枪的压力为8-12Kg。
3.根据权利要求１所述的硅原材料的清洗方法，其特征在于所述步骤（3）中超声清洗采用三面清洗式超声清洗机。
4.根据权利要求3所述的硅原材料的清洗方法，其特征在于三面清洗式超声清洗机为底震、前震和后震式超声清洗机。
5.根据权利要求１所述的硅原材料的清洗方法，其特征在于所述洗液的重量组成为：硅片清洗剂 30%、水 70%。
6.根据权利要求１-5任意一项所述的硅原材料的清洗方法，其特征在于所述硅片清洗剂型号为MT-480。
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