[发明专利]一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法

权利要求书

1.一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

步骤一：将质量百分比浓度为68％的硝酸与水按照体积比1：5配置硝酸溶液，并用配好的硝酸溶液清洁镀有铝掺杂硅改性膜的烧结碳化硅镜胚10～30分钟；

步骤二：用清水清洗镀有铝掺杂硅改性膜的烧结碳化硅镜胚5～20分钟；

步骤三：将质量百分比浓度为40％的氢氟酸和水按照体积比10：1配制成溶液，并用配好的氢氟酸溶液清洁镀有铝掺杂硅改性膜的烧结碳化硅镜胚10～30分钟；

步骤四：用清水清洗镀有铝掺杂硅改性膜的烧结碳化硅镜胚5～20分钟；

步骤五：将质量百分比浓度为40％的氢氟酸和水按照体积比2：1配制成溶液；

步骤六：使用脱脂棉蘸取步骤五中配制好的氢氟酸溶液均匀涂于烧结碳化硅镜胚表面，对铝掺杂硅改性膜进行腐蚀溶解；

步骤七：待铝掺杂硅改性膜完全溶解后，使用脱脂棉蘸取碳酸钙粉末擦拭烧结碳化硅镜胚表面以去除残余液体，然后用清水冲洗烧结碳化硅镜胚表面直至清洁；

步骤八：若烧结碳化硅镜胚上的铝掺杂硅改性膜仍有残余，则重复第五步至第七步的过程，若碳化硅基底上的硅厚膜已彻底清除，则继续进行步骤九；

步骤九：用脱脂棉蘸取氧化铈粉末擦拭烧结碳化硅镜胚表面5～10分钟，然后用清水冲洗烧结碳化硅镜胚表面直至清洁；

步骤十：使用质量百分比浓度为99.7％的酒精超声清洗烧结碳化硅镜胚10～20分钟，并自然风干，即可完全去除烧结碳化硅镜胚上的铝掺杂硅改性膜。

2.如权利要求1所述的一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法，其特征在于，步骤七所述的碳酸钙粉末是纯度大于99.5％的高纯碳酸钙粉末。

3.如权利要求1所述的一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法，其特征在于，步骤九所述氧化铈粉末是纯度大于等于99.99％的氧化铈粉末，其细度为中心粒径1.5-1.8μm，最大粒径不超过11μm。

4.如权利要求1所述的一种去除烧结碳化硅反射镜的铝掺杂硅改性膜的方法，其特征在于，步骤十所述酒精的质量百分比浓度大于等于99.7％。