[发明专利]一种润滑薄膜的制备方法有效
| 申请号: | 201410218285.6 | 申请日: | 2014-05-22 |
| 公开(公告)号: | CN103984204A | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
| 发明(设计)人: | 李丰;邓萌萌;石振;杨立梅 | 申请(专利权)人: | 苏州锦元纳米科技有限公司;南京丰强纳米科技有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00;B81C1/00 |
| 代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋 |
| 地址: | 215121 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 润滑 薄膜 制备 方法 | ||
1. 一种润滑薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)对基底表面上的薄膜层进行预处理,以去除表面灰尘;
(2)在薄膜层上旋涂SU-8光刻胶,加热后紫外固化,形成中间层;
(3)在中间层上旋涂紫外光固化纳米压印胶,形成紫外光固化纳米压印胶层;
(4) 将软质压印模板压入紫外光固化纳米压印胶层,在紫外灯下曝光,曝光结束后移去软质压印模板,所述软质压印模板的下表面上设微纳结构图案;
(5)刻蚀去除压印时残留的紫外光固化纳米压印胶,露出中间层;
(6)以紫外光固化纳米压印胶层作为掩膜层,刻蚀中间层的SU-8光刻胶,露出薄膜层;
(7)以紫外光固化纳米压印胶层和中间层作为掩膜,刻蚀薄膜层,在薄膜层上形成微纳结构;
(8)去除紫外光固化纳米压印胶层和中间层,获得所需润滑薄膜。
2. 根据权利要求1所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述预处理为氮气吹扫,吹扫时间为30~120秒。
3. 根据权利要求1所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:中间层的厚度为300~1000纳米,紫外光固化纳米压印胶层的厚度为100~300纳米。
4. 根据权利要求1所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:采用气体刻蚀法,所述紫外光固化纳米压印胶层的刻蚀气体为氧气与三氟甲烷的混合气体,氧气与三氟甲烷的体积比为4∶1;所述中间层的刻蚀气体为氧气。
5. 根据权利要求1所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:所述薄膜为类金钢石薄膜,步骤(7)中,薄膜的刻蚀采用气体刻蚀法,刻蚀气体为氧气与三氟甲烷的混合气体,氧气与三氟甲烷的体积比为1∶1。
6. 一种润滑薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)对基底表面进行预处理,以去除表面灰尘;
(2)在基底上旋涂SU-8光刻胶,加热后紫外固化,形成中间层;
(3)在中间层上旋涂紫外光固化纳米压印胶,形成紫外光固化纳米压印胶层;
(4) 将软质压印模板压入紫外光固化纳米压印胶层,在紫外灯下曝光,曝光结束后移去软质压印模板,所述软质压印模板的下表面上设微纳结构图案;
(5)刻蚀去除压印时残留的紫外光固化纳米压印胶,露出中间层;
(6)以紫外光固化纳米压印胶层作为掩膜层,刻蚀中间层的SU-8光刻胶,露出薄膜层;
(7)以紫外光固化纳米压印胶层和中间层作为掩膜,刻蚀基底,在基底上形成微纳结构;
(8)去除紫外光固化纳米压印胶层和中间层;
(9)在具有微纳结构的基底表面沉积薄膜层,得到具有微纳结构的润滑薄膜。
7. 根据权利要求6所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,所述预处理为氮气吹扫,吹扫时间为30~120秒。
8. 根据权利要求6所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:中间层的厚度为300~1000纳米,紫外光固化纳米压印胶层的厚度为100~300纳米。
9. 根据权利要求6所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:采用气体刻蚀法,所述紫外光固化纳米压印胶层的刻蚀气体为氧气与三氟甲烷的混合气体,氧气与三氟甲烷的体积比为4∶1;所述中间层的刻蚀气体为氧气。
10. 根据权利要求6所述的润滑薄膜的制备方法,其特征在于:步骤(9)中,沉积的薄膜层为类金刚石薄膜。
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