[发明专利]含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液及其制备工艺有效
| 申请号： | 201410195956.1 | 申请日： | 2014-05-09 |
| 公开（公告）号： | CN103992743B | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 李维民;陈杏辉 | 申请（专利权）人： | 杰明纳微电子股份有限公司;李维民 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 | 代理人： | 郭伟刚 |
| 地址： | 中国香港中环德己笠街*** | 国省代码： | 中国香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二氧化铈粉体 胶体二氧化硅 制备工艺 抛光液 混合磨料 粒径 分散剂 制备 化学机械抛光液 磨料 二氧化硅颗粒 二氧化铈颗粒 凹坑 划痕 去除 生产 | ||
【权利要求书】：
1.含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液在硬盘基板用玻璃抛光中的应用，采用二氧化铈粉体、胶体二氧化硅、分散剂和水作为原料，其特征在于：各组分的重量百分含量为：二氧化铈粉体3％-10％，胶体二氧化硅40％-50％，分散剂为0.001％-0.5％，其余为水；胶体二氧化硅中SiO2浓度为35％；
其中，所述二氧化铈粉体粒径为100-2000nm，所述胶体二氧化硅粒径为10-200nm；
所述分散剂为十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、吐温80、聚乙二醇400、聚乙烯吡络烷酮、羧甲基纤维素、十六烷基三甲基溴化铵、聚乙烯亚胺、六偏磷酸钠、氮氯十二烷基吡啶、异丙醇胺、脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯中的一种或几种的组合物。
2.如权利要求1所述的含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液在硬盘基板用玻璃抛光中的应用，其特征在于：所述原料中还有pH值调节剂，其含量保证溶液pH值控制在7-12之间。
3.如权利要求2所述的含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液在硬盘基板用玻璃抛光中的应用，其特征在于：所述pH值调节剂为氨水、氢氧化钾、氢氧化钠中的一种或几种的组合物。
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