[发明专利]成膜装置

权利要求书

1.一种通过离子镀法在真空腔室内使成膜材料的粒子附着于成膜对象物的成膜装置，其中，具备：

蒸发源，使所述成膜材料蒸发而使所述成膜材料的粒子扩散；

输送机构，在所述真空腔室内向规定的输送方向输送所述成膜对象物；及

扩散宽度调整部，调整来自所述蒸发源的所述成膜材料的粒子的扩散宽度，

所述蒸发源具有：

作为主阳极的主炉缸，保持所述成膜材料，并且向所述成膜材料导入等离子束或者被导入所述等离子束；及

作为辅助阳极的环炉缸，配置于所述主炉缸的周围，并且具有永久磁铁部及线圈，且引导所述等离子束，

所述扩散宽度调整部由在与所述输送方向平行的第1方向上对置地设置有一对、且调整所述环炉缸的磁场的辅助线圈构成，

所述扩散宽度调整部通过使一对所述辅助线圈产生减弱所述永久磁铁的磁力，使与所述第1方向正交的第2方向上的扩散宽度大于所述第1方向上的扩散宽度。

2.根据权利要求1所述的成膜装置，其中，

所述辅助线圈还在所述第2方向上对置地设置有一对，

所述扩散宽度调整部使在所述第1方向上对置设置的一对所述辅助线圈产生减弱所述永久磁铁的磁力，并使在所述第2方向上对置设置的一对辅助线圈产生增强所述永久磁铁的磁力，从而使所述第2方向上的扩散宽度大于所述第1方向上的扩散宽度。

3.根据权利要求1或2所述的成膜装置，其中，

所述辅助线圈配置在比所述环炉缸的所述永久磁铁部更靠近所述输送机构侧。