[发明专利]一种用于双检测器直流塞曼原子吸收的偏振调校方法及装置有效
| 申请号: | 201410136156.2 | 申请日: | 2014-04-04 |
| 公开(公告)号: | CN103940512B | 公开(公告)日: | 2016-11-09 |
| 发明(设计)人: | 陈建钢;杨啸涛;刘志高;俞俊良 | 申请(专利权)人: | 上海光谱仪器有限公司 |
| 主分类号: | G01J3/42 | 分类号: | G01J3/42;G02B26/00 |
| 代理公司: | 上海天翔知识产权代理有限公司 31224 | 代理人: | 刘常宝 |
| 地址: | 201709 上海市青*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 检测器 直流 原子 吸收 偏振 调校 方法 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种塞曼原子吸收技术,具体涉及塞曼原子吸收的偏振调校技术。
背景技术
原子吸收光谱仪在我国的普及率很高,其原因之一就是国内很早就具备生产原子吸收仪器的条件,有许多企业可以生产原子吸收仪器。近年来,国外诸多仪器厂商开始在国内建立独资企业,生产原子吸收仪器,与国内仪器制造企业竞争。因此,在注重仪器质量的同时,开发研制具有特色的高端原子吸收光谱仪显得尤为重要。
高端原子吸收光谱仪主要是指塞曼原子吸收光谱仪和连续光源原子吸收光谱仪。虽然自1976年日立公司生产第一台塞曼效应校正背景的原子吸收光谱仪起已经有很长历史了,但因为原子吸收光谱法最主要的光谱干扰是分子吸收和光散射,而塞曼效应背景校正是能较好地解决这一干扰的方法;另外,由于其双光束特性,可以在火焰和石墨炉分析中获得良好的信噪比,一直受到广大分析工作者的青睐。
公告号CN1270174C(专利号ZL200410026878.9)的中国专利公开了一种恒定磁场反塞曼效应原子吸收分析的方法及其装置,该专利提供了一种直流磁场塞曼背景校正光路结构设计,由此可形成双检测器直流塞曼背景校正原子吸收装置或仪器,其与传统塞曼原子吸收中塞曼背景校正不同的是在出口狭缝和偏振棱镜之后,使用了两个光电检测器,可以进行同时背景校正(参见图5)。
对于双检测器塞曼原子吸收仪器的性能的关键技术在于:平行于磁场和垂直于磁场的两个偏振光是否能完全分开,分别照到两个检测器上。
但是现有的双检测器塞曼原子吸收仪器中的双检测器直流塞曼背景校正装置在使用时无法对其光路进行有效的调校,以确保平行于磁场和垂直于磁场的两个偏振光完全分开,且对应照到两个检测器上,从而造成检测结果存在较 大的偏差。
由此可见,如何调校双检测器直流塞曼原子吸收的偏振是本领域亟需好解决的问题。
发明内容
针对现有双检测器直流塞曼原子吸收检测精度不高的问题,本发明的目的在于提供一种用于双检测器直流塞曼原子吸收的偏振调校方法,以实现对双检测器直流塞曼原子吸收的偏振调校,保证检测精度。
本发明的另一目的在于,提供一种用于双检测器直流塞曼原子吸收的偏振调校装置。
为了达到上述目的,本发明采用如下的技术方案:
一种用于双检测器直流塞曼原子吸收的偏振调校方法,所述调校方法利用一绕中心轴转动的偏振棱镜,对调校光源进行分离,让偏振面随偏振棱镜旋转的偏振光沿着原子吸收的光轴进入出口狭缝,并分开其余偏振光;使得双检测器中两个光电倍增管分别得到呈正弦波的光信号,再根据两正弦波的光信号对双检测器直流塞曼原子吸收光学调校,使得两正弦波的光信号谷底为零。
在调校方法的优选实例中,所述两个光信号相位差180度。
进一步的,所述偏振棱镜带动进入出口狭缝的偏振光的偏振面转动时,当偏振面垂直于磁场方向时,进入出口狭缝的偏振光全部进入第一光电倍增管,而第二光电倍增管检测到的光信号为零;当偏振面平行于磁场方向时,进入出口狭缝的偏振光应该全部进入第二光电倍增管,而第一光电倍增管检测到的光信号为零。
作为本发明的第二目的,一种用于双检测器直流塞曼原子吸收的偏振调校装置,该装置包括:
空心马达;
偏振棱镜,所述偏振棱镜同轴安置在空心马达的空心转子中;
光源,所述光源通过同轴安置空心马达中的偏振棱镜的中心轴对准双检测器塞曼原子吸收的出口狭缝,并与原子吸收光轴重合。
在偏振调校装置的优选实例中,所述偏振棱镜为罗匈棱镜。
进一步的,所述光源为激光器。
根据上述方案形成的偏振调校方法能够对双检测器直流塞曼原子吸收过程中的光线偏振进行精确调校,保证检测结果的精确度。
同时,本偏振调校装置结构简单,易于实现。
附图说明
以下结合附图和具体实施方式来进一步说明本发明。
图1为本发明的结构原理图;
图2为罗匈棱镜示意图;
图3为空心马达和罗匈棱镜的装配示意图;
图4为图3的横截面示意图;
图5为双检测器塞曼原子吸收中双检测器直流塞曼背景校正装置的光路示意图;
图6为使用本发明在两检测器上所得信号的示意图。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
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