[发明专利]照射装置在审
| 申请号: | 201410116828.3 | 申请日: | 2014-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN104075253A | 公开(公告)日: | 2014-10-01 |
| 发明(设计)人: | 田中大作;山田一吉;酒井雅宽;石飞裕和 | 申请(专利权)人: | 岩崎电气株式会社 |
| 主分类号: | F21V14/04 | 分类号: | F21V14/04;F21Y103/00 |
| 代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 杨黎峰;金丹 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 照射 装置 | ||
技术领域
本发明涉及一种利用线状光源均匀地照射照射区域的照射装置,特别是涉及照射远远长于线状光源的照射区域的技术。
背景技术
已知一种紫外线照射装置,其具有将内壁面作为反射面的四角筒状的腔室,在该腔室中收装有线状光源。在该紫外线照射装置中,使腔室的内壁面从基部向前端侧呈扩张状倾斜,通过适当地调整其倾角,能以均匀的照度扩大照射区域(例如,参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2010-218775号公报
发明内容
本发明所要解决的问题
然而,越是扩大照射区域,腔室内壁面的前端也越是扩大,因此,存在使装置趋向大型化的问题。
鉴于上述问题,本发明的目的是提供一种即使扩大照射区域也能实现小型化的照射装置。
为解决问题的方法
本说明书包括2013年3月28日申请的日本专利申请特愿2013-068053和2013年3月29日申请的日本专利申请特愿2013-071475的全部内容。
为了实现上述目的,本发明的照射装置具有:线状光源、覆盖所述线状光源上侧的主反射面、在所述线状光源的端部呈面对配置的一对侧面反射面、以及设置在所述线状光源与照射区域之间的呈四角筒状的辅助反射面。在所述辅助反射面与所述线状光源之间的所述线状光源的两端侧分别设有第一反射面,该第一反射面的下端比上端更靠近所述线状光源的中心,所述第一反射面用于向所述主反射面和所述侧面反射面反射所述线状光源的光,所述线状光源的两端侧的所述辅助反射面的基端能够配置在所述第一反射面的下端的位置。
另外,在本发明的所述照射装置中,通过所述线状光源的直接光与所述主反射面、一对所述侧面反射面和所述辅助反射面的反射光,以规定的均匀度照射长于所述线状光源的所述照射区域。
另外,在本发明的所述照射装置中,在所述主反射面上沿所述线状光源设有通气口,该通气口至少延伸至使所述第一反射面的反射光通过的位置,还具有第二反射面,其使通过所述通气口的所述第一反射面的反射光通过所述通气口向所述照射区域进行反射。
另外,在本发明的所述照射装置中,在所述主反射面和所述辅助反射面上的至少一方设置开口部、光吸收部、低反射性部或漫射部,以降低所述照射区域中局部产生的高照度区域的照度。
另外,在本发明的所述照射装置中,通过线状光源的直射光和包围该线状光源周围的四角筒状的反射面的反射光,以均匀照度照射所述线状光源的正下方的照射区域,在所述反射面上设置开口部、光吸收部、低反射性部或漫射部,以降低所述照射区域中局部产生的高照度区域的照度。
另外,在本发明的所述照射装置中具有导光单元,该导光单元将通过设置在所述反射面上的开口部而向外部射出的光导向所述照射区域。
另外,在本发明的所述照射装置中,所述导光单元具有外侧反射面,其配置在覆盖所述反射面的所述开口部的位置,利用所述外侧反射面与所述反射面的外表面之间的反射,而对通过所述开口部的光进行导光。
另外,在本发明的所述照射装置中,所述导光单元具有支承部件,其从所述外表面在隔开间隔的位置支承所述外侧反射面,所述支承部件延伸至所述反射面的外表面。
发明效果
根据本发明,通过在辅助反射面与线状光源之间的线状光源的两端侧设置第一反射面,该第一反射面的下端比上端更靠近线状光源的中心,用于向主反射面反射线状光源的光,这样能将线状光源两端侧的辅助反射面的基端配置在第一反射面的下端的位置。
这样,由于能将线状光源两端侧的辅助反射面的基端配置在靠近线状光源中心的位置,所以辅助反射面在线状光源长轴方向的长度变短而能实现装置的小型化。
附图说明
图1是本发明的第一实施方式涉及的照射装置的外观立体图。
图2是表示照射装置的结构的图,(A)是俯视图,(B)是主视图,(C)是侧视图。
图3是包含紫外线灯管轴的照射装置的纵截面图。
图4是照射装置的横截面图。
图5是工件的照度分布图,(A)是表示紫外线灯的照度分布,(B)是表示通过光源单元照射的照度分布,(C)是表示通过照射装置照射的照度分布。
图6是本发明的第二实施方式涉及的照射装置的外观立体图。
图7是表示照射装置的结构的图,(A)是俯视图,(B)是主视图,(C)是侧视图。
图8是图6所示的照射装置内部的透视图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于岩崎电气株式会社,未经岩崎电气株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410116828.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种煤气在窑炉上的使用方法
- 下一篇:光学透镜、发光装置及照明装置





