[发明专利]PTFE膜

权利要求书

1.一种多孔PTFE膜，包括第一多孔表面和第二多孔表面、和在第一多孔表面和第二多孔表面之间的主体，其中该膜具有在大约2纳米到大约50纳米范围的孔径，并且第一和第二多孔表面各自包括的非熔合结节面积与熔合结节面积的比率为大约1或更大。

2.根据权利要求1所述的PTFE膜，其中所述第一和第二多孔表面各自包括的非熔合结节面积与熔合结节面积的比率为大约1.5或更大。

3.根据权利要求1所述的PTFE膜，其中所述第一和第二多孔表面各自包括的非熔合结节面积与熔合结节面积的比率从大约1到大约5。

4.根据权利要求1到3的任意一项所述的PTFE膜，其中所述PTFE膜具有范围从大约5纳米到大约20纳米的孔径。

5.一种制造多孔PTFE膜的方法，所述方法包括：

(a)使多孔PTFE膜受到升高的压力给定的暴露时间；

和；

(b)接着，使该多孔PTFE膜受到升高的温度至少大约10秒的暴露时间，其中该升高的温度为至少大约200℃且低于325℃，和其中在受到升高的温度时，所述膜没有与加热元件相接触。

6.根据权利要求5所述的方法，其中(b)包括使该多孔PTFE膜受到大约200℃到大约320℃的范围的升高的温度至少大约20秒的暴露时间，和其中在受到升高的温度时，所述膜没有与加热元件相接触。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其中在(b)中的所述暴露时间为至少大约45秒。

8.一种膜，其通过根据权利要求5到7中的任一项所述的方法制备。