[发明专利]一种高浓度氨氮废液资源化利用方法无效
| 申请号: | 201410085584.7 | 申请日: | 2014-03-10 |
| 公开(公告)号: | CN103819026A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
| 发明(设计)人: | 沈雨锋;王治军;欧阳俊治;王九飙;李红玲;曾钿 | 申请(专利权)人: | 惠州TCL环境科技有限公司 |
| 主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04;C02F9/10;C02F103/16;C02F101/16 |
| 代理公司: | 东莞市中正知识产权事务所 44231 | 代理人: | 张汉青 |
| 地址: | 516000 广东省惠州市惠*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 浓度 废液 资源 利用 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种高浓度氨氮废液资源化利用方法,主要是针对电路板行业含铜蚀刻废液提铜后高浓度氨氮废液进行资源化综合利用。该方法特别涉及高氨氮废水的除杂方法,该方法特别涉及离子交换技术回收含有低浓度铜的高氨氮废水的方法,涉及使用氯化钡去除硫酸根形成硫酸钡的方法,涉及氨氮废水蒸馏浓缩的方法,涉及氨氮废水浓缩液按照特定配方调配成碱性蚀刻子液和单液型酸性蚀刻子液产品回用于线路板行业的方法。
背景技术
印制电路板蚀刻废液(也称PCB蚀刻废液)包括酸性含铜蚀刻废液和碱性含铜蚀刻废液。由印制电路板含铜蚀刻废液提铜生产硫酸铜、碱式氯化铜或者海绵铜等产品,反应后的废水属高氨氮废水如果不进行处理,任意排放,会造成水体富营养化,污染水质。所以印制电路板含铜蚀刻废液提铜废水的后续处理在无害化、资源化处理环节上至关重要。
目前,氨氮废水的脱氮处理方法有生物硝化反硝化法、折点加氯法、气提吹脱法、离子交换法和蒸发结晶法等,但是这些方法在处理能力上和处理效果上都不是很理想,存在容易造成二次污染,废水需要再处理,能耗高,经济效益差等问题。采用高效蒸发浓缩技术,一方面蒸馏水回用于印制电路板含铜蚀刻废液生产硫酸铜、碱式氯化铜的压滤洗涤,避免了蒸馏水的二次污染,另一方面浓缩液无外排,高效蒸发设备回收的氯化铵浓缩液按照特定的配方重新调配成碱性蚀刻子液或单液型酸性蚀刻子液重新回用于印制电路板。
中国专利CN1367147A公开了的“高浓度氨氮废水处理方法”,其特征在于首先向废水中加入碱性复合化剂生石灰和过氧化钙,搅拌反应后曝气1小时,再加入氢氧化钠和过硼酸钠,搅拌反应后曝气1小时,再加入铝盐或铁盐絮凝剂,搅拌均匀后曝气0.5-1小时,最后在加入高分子絮凝剂的作用下沉降、分离。但是,该工艺存在的主要缺点是每一步试剂加入后反应曝气,导致大量的氨氮气体飘散在空气中,治标不治本,仍然污染环境。
中国专利CN1156766A公开了的“再生碱性蚀刻补充液的制备方法及其装置系统”,其特征在于将碱性蚀刻废液用酸性氯化铜蚀刻废液中和,生成碱式氯化铜沉淀,经压滤,对其过滤液进行氯化铵和添加剂磷酸铵含量调整后,通过PE为空管进行二次通氨,经过滤制得再生碱性蚀刻补充液。但是,该工艺未对过滤液进行净化,含有SO42-及少量Cu2+等杂质,将严重影响到蚀刻子液的品质;此外该专利仅能调配成一种碱性蚀刻子液。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于避免上述现有技术不足之处而提出一种高浓度氨氮废液的资源化利用的方法。该方法将电路板行业含铜蚀刻废液回收印制电路板含铜蚀刻废液提铜生产硫酸铜、碱式氯化铜或者海绵铜等产品后的高浓度氨氮废液进行资源化综合利用,特别适合对该类型的高浓度氨氮废液进行批量处理。
本发明解决所述技术问题采用的技术方案包括如下步骤:
一种高浓度氨氮废液资源化利用方法。其特征在于包括如下步骤:
(A)除杂:针对含铜蚀刻废液提铜后产生的高浓度氨氮废液,采用离子交换技术回收低浓度的铜离子;除铜后的废水再添加适量的氯化钡(BaCl2)除去引入的硫酸根杂质;
(B)调配:上述经净化的废水通过外加法或者多效蒸发器蒸发浓缩调整氯化铵浓度,再按照相应的配方调配成蚀刻子液回用于电路板行业。
所述步骤(A)中,(1)在使用离子交换技术吸附剩余未回收完的含铜废水时,除铜树脂采用的是其载体成分主要为哌嗪氨基二硫代甲酸型螯合树脂,含铜废液在离子交换柱的停留时间为0.5-2min;(2)在解析离子交换柱时,选用10-20%分析纯盐酸解析树脂,得到氯化铜液体,用于中和反应;(3)通过加一定量的BaCl2除去废水中的SO42-,经过压滤机压滤后,分离出BaSO4产品。
所述步骤(B)中,(1)上述经净化的废水通过外加法或者多效蒸发器蒸发浓缩调整氯化铵浓度为280-350g/L;(2)在蒸发氨氮废水时,采用负压循环蒸发装置,蒸发装置采用机械压缩机对蒸汽进行循环压缩,蒸发温度在100-118℃之间。
所述步骤(B)中,按照相应的配方调配成蚀刻子液回用于电路板行业。调配的碱性蚀刻子液配方为:280-330g/L的高浓度氨氮浓废液800-840L,98%液氨180L,食碳12.5kg,添加剂3kg、其重量比:硫代硫酸钠:磷酸复合盐:硫代硫酸铵为1:1:1。
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