[发明专利]一种刻蚀设备反应腔的电极和刻蚀设备无效
| 申请号： | 201410022519.X | 申请日： | 2014-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN103779166A | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 蒋会刚;肖红玺;谢海征;高建剑;高福亮;蒋晓纬 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 设备 反应 电极 | ||
1.一种刻蚀设备反应腔的电极，包括一平板，平板上设有多个第一通孔，其特征在于，所述电极还包括多个具有第二通孔的嵌入件，所述嵌入件嵌入所述第一通孔内。
2.根据权利要求1所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述嵌入件为螺栓，第一通孔为内螺纹孔，所述螺栓通过其外螺纹与第一通孔连接。
3.根据权利要求1或2所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述螺栓的材料为防腐蚀材料。
4.根据权利要求3所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述防腐蚀材料为陶瓷或特氟龙。
5.根据权利要求1或2所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述嵌入件的一端具有头部，所述头部具有与所述平板接触的表面，所述表面设有凹槽，所述电极还包括垫圈，所述垫圈设于所述凹槽中。
6.根据权利要求5所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述凹槽与垫圈的形状均为圆环形或方环形。
7.根据权利要求5所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述垫圈采用耐腐蚀性材料。
8.根据权利要求7所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述耐腐蚀性材料为全氟化耐腐蚀橡胶材料。
9.根据权利要求1所述的刻蚀设备反应腔的电极，其特征在于，所述第二通孔横截面的形状为圆形或方形。
10.一种刻蚀设备，其特征在于，包括如权利要求1至9任意一项所述的刻蚀设备反应腔的电极。
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